Центрифуги для нанесения и проявления фоторезиста SUSS LabSpin 6 и LabSpin 8
Следующее поколение центрифуг для нанесения и проявления резиста для пластин до 150 мм диаметром (LabSpin 6) и до 200 мм диаметром (LabSpin8).
Эти системы разработаны специально для нанесения резиста в лабораторных условиях и выпускаются в двух вариантах - настольмом, в собственном корпусе, и интегрируемом в столешницу. Центрифкги обеспечивают расномерное, точное и воспроизводимое нанесение резиста на полупрроводниковые пластины, а также проявление фоторезиста на засвеченных пластинах. Контроль процессом осуществляется при помощи сенсорного дисплея и имеет интуитивно понятный интерфейс. На центрифугах возможно нанесение резиста не только на круглые полупроводниковые пластины, но и на квадратные, прямоугольные, а также неправильной формы.
| Обеспечиваемые процессы |
- Нанесение центрифугированием
- Проявление наливом
- Сушка при помощи вращения при одновременной подаче азота
|
| Гибкость |
- Регулируемое положение шприца при подаче резиста обеспечивает как подачу резиста как в центр пластины, так и на края
- Проявление наливом улучшается путем колебаний пластины, что также сокращает время проявления
- Возможна применение сопла для удаления краевого валика
|
| Легкость эксплуатации |
- Сенсорный дисплей для легкого ввода информации
- Снимаемая чаша для быстрого переключения между процессами, что предотвращает перезагрязнение
|
| Надежность и безопасность |
- Двигатель с полым штоком и вакуумным накопителем
- Емкость для отработанного резиста или проявителя спереди установки для быстрого доступа и визуального контроля наполняемости
|
Доступные опции:
Крышка
Центрифуга может быть укомплектована специальной крышкой, позволяющей фиксировать сопло для распыления на разных позициях для нанесения по центру, краю пластины, а также удаления краевого валика. Для процесса проявления в крышку вставляется система подачи проявителя и сопло обдува азотом
Подающая шприцевая система
Система подачи при помощи шприца с применяемым давлением применяется для процессов с минимальным потреблением резиста и/или требующим частой замены материала. Подобная система обеспечивает более эффективное расходование резиста при НИОКР
Полностью автоматическая система подачи резиста
Это прекрасное решение для тех пользователей, кто отрабатывает повторяемость процессов на нескольких подложках. Система крепится на бутыли с резистом и, благодаря давлению, подает резист на пластину по трубке. Оптимизированная система с точной подачей экономит фоторезист и время.
Покрытие краев пластин
Иногда возникает необходимость уделить дополнительное внимание краям пластины, для чего поставляется специальная система, позволяющая работать на круглых пластипнах от 2 люймов.
Система удаления краевого валика
Система включает специальное сопло, работающее на круглых пластинах от 2 дюймов, а также отдельную систему подачи из бутыли с растворителем
Система подачи проявителя
Установка LabSpin может комплектоваться системой проявления пластин наливом. Система работает совместно с колебаниями самой пластины, что сокращает время процесса и улучшает равномерность.
Сушка азотом
Данная опция позволяет высушить пластину после проявления и промывки деионизованной водой. Цифровой дисплей отображает поток азота. |
