Оборудование для контактной литографии
Мы можем предложить вам современные литографические установки как для НИОКР и пилотных производств, так и для массового выпуска продукции. Литография от немецкой фирмы Suss MicroTec - это гарантия высокого качества, удобства работы, а также оптимальное соотношение затраты/выход продукции.

Ручная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии базового уровня. Обработка пластин до 100мм
Экспонирование высокого разрешения – до 0,5 микрон
-
Размер обработки пластин и подложек - до 100 мм диаметром (пластины) и до 100х100 мм (подложки).
-
Специальные держатели для кусков пластин, А3-Б5, толстых подложек, гибридных схем и ВЧ
-
Высокоточная юстировка на плоскости и манипулятора микроскопа
-
Возможность конфигураций оптики интенсивной УФ и экспозиций с длиной волны до 80 мВт/см2
-
Минимальные затраты на обучение операторов установки
-
Продуманная эргономика
-
Графический интерфейс пользователя управляет функциями установки со специального экрана, чувствительного к нажатиям
-
Легкий доступ ко всем элементам установки
-
При необходимости устанавливается лазерное оборудование
Подробнее о системе |
 |

SUSS MA/BA6
Ручная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии и бондинга с расширенными возможностями. Обработка пластин до 150мм
MA6 (установку совмещения пластин) легко перепрофилировать на совмещение подложек для склейки (бондинга), эта система носит название BA6.
Совмещение сверху/снизу и ИК
-
Точное установление зазора
-
Высококачественная оптика с уменьшением дифракции позволяет достичь высокого разрешения
-
Оптимальное качество края при толстом резисте
-
Надежное субмикронное разрешение
-
Возможность работы с хрупкими пластинами и кусочками
-
Прецизионный модуль фиксации (и безфиксационная опция) совмещенных пластин для бондинга
-
Опция для Нано импринтинга
-
Опция Голографии ближнего поля для создания двухмерных оптических структур
-
Работа с пластинами от 2 дюймов до 150 мм
-
Размер подложки от 2Х2 до 6Х6 дюймов)
-
Работа с кусочками менее 5 мм
Подробнее о системе |
 |

Автоматизированная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии. Обработка пластин до 150мм
Высокопроизводительная система до 170 пластин в час (first mask mode)
-
Работа с подложками и пластинами диаметром от 50 до 150 мм
-
Система конфигурируется как для совмещения сверху, так и снизу с применением последней версии ПО Cognex™
-
Быстрый переход на разные размеры пластин
-
Невысокая стоимость для НИОКР или производства
-
Экспонирование всей поверхности пластины делает систему более производительной, чем степпер
-
Шаблонодержатель с верхней загрузкой для быстрой и безопасной смены шаблона
-
Графический интерфейс под Windows согласно стандартам SEMI
-
Специальные наборы оптик позволяют работать в широком диапазоне разрешений и с резистами различной толщины
-
Специальные средства для работы с хрупкими подложками и различными геометриями
Подробнее о системе |
 |

Автоматическая система совмещения и экспонирования для массового объема выпуска. Обработка пластин до 200мм. Производительность до 150 пластин в час. Усовершенствованная система транспорта позволяет достичь рекордной производительности даже на 200-мм подложках. Системы MA200 являются основой для MA200 Plus.
- Прямое совмещение: точность 0.5 микрон (3сигма) с улучшенным программным обеспечением распознавания образов
- Компактные габаритные размеры 2.12м2
- Автоматическая работа с 2 кассетами (опционально 4 кассеты)
- SECSII/GEM функциональные возможности
- Максимальная пропускная способность более 100 подложек в час
- Разрешающая способность: менее 3 микрон (на зазоре), 1микрон (при контакте), субмикронное (при вакуумном контакте)
Подробнее о системе |
 |

Обеспечивает полный цикл производства продукции, включая нанесение резистов, совмещение пластин, экспонирование, проявление, отмыв, бондинг и т.п.
- Автодетектирование размера пластин
- Наращиваемая кластерная архитектура
- Превосходная работа с толстыми резистами
- Купол GYRSET для лучшей равномерности нанесения
- Нанесение без "бахромы" на квадратных и прямоугольных подложках
- Точная система удаления валика у края
- Нанесение резистов струей и спреем для достижения превосходного покрытия высокой топографии
- Технология параллельных потоков для оптимального использования установки
Подробнее о системе |
 |