SUSS MicroTec представляет новую систему экспонирования с изменяемым углом засветки фоторезиста для автоматических установок SUSS MA 200

При засветке отвесных стенок полупроводниковых структур стандартная фотолитография не может обеспечить достаточную дозу. Также в тех случаях, когда толщины резистов на стенках больше таковых на поверхности, равномерная засветка резиста становится невозможной на стандартных установках.

Для этого необходимо изменить угол засветки, что и предоставляет новая система экспонирования, позволяющая засвечивать как со стандартным углом 90°, так и с углом 60° и 45°

Американская Cascade Microtech и немецкая SUSS MicroTec пришли к соглашению о передаче подразделения тестовых систем SUSS MicroTec в собственность американской компании. Отметим, что речь идет только о заводе, расположенном в Дрездене и выпускающем зондовые станции, высокочастотные измерительные головки и сопутствующее оборудование. Все литографическое оборудование (системы фотолитографии, нанесения/проявления, бондинга/дебондинга пластин), производство фотошаблонов, микролинз остается в собственности SUSS MicroTec. Более подробная информация - по ссылке (на английском).

В настоящее время мы продолжаем продажи зондовых станций Cascade Microtec Dresden (бывшая SUSS MicroTec Test Systems), они поддерживаются и будут поддерживаться запчастями и сервисом в будущем.

После сравнения линеек продуктов компаний будет вынесено решение о полном ассортименте, включающем лучшие продукты объединенной компании. Ориентировочное время принятия решений по данному вопросу - апрель-июнь 2010 года.

SUSS MicroTec выпускает новые зондовые головки, способные работать на частотах до 67 ГГц. Также представлена технология 1MX, позволяющая достичь 1'000'000 (один миллион) гарантированных контактов на одной зондовой головке.

С помощью технологии 1МХ достигается минимальное повреждение контактной площадки, уменьшаются потери, улучшается изоляция сигнального проводника, что приводит в конечном счете к более точным и аккуратным измерениям.

Доктор Стоян Канев, Директор по маркетингу и производству отделения тестовых систем SUSS MicroTec: "Новая технология поднимает на недосягаемую прежде выстоту аккуратность измерений с помощью уменьшения прямых и отраженных потерь, а также позволяет использовать зондовые головки на частотах до 67 ГГц."

По-прежнему доступны различные версии головок для измерений в крио-среде (от 10К) и высоких температур (до 300С)

Подробнее о новых зондовых головках смотрите на сайте SUSS MicroTec, а также в специальном разделе нашего сайта

Нажмите на картинку для увеличения:

Выпущена новая оптика для установок экспонирования SUSS MicroTec под названием "MO Exposure Optics"

Она позволяет:

MO-оптика предоставляется с полной библиотекой установок засветки, включая А-оптику, B-оптику, D-оптику, HR и LGO-оптику, плюс дополнительные установки круговой засветки, квадратной и мальтийским крестом (0°, 45°). Простой заменой пластин с фильтрами достигается нужное сокращение дифракции для увеличесния глубины фокуса и ширины засветки при уменьшении факторов ошибки шаблона.

Оптика может быть установлена во все современные модели установок совмещения и экспонирования SUSS MicroTec - как ручные MJB4, MA/BA6, MA8, так и автоматические MA150, MA200 Compact, MA300 и полностью совместима со всеми системами засветки.

SUSS MicroTec запускает новую установку производства микросхем в автоматическом режиме второго поколения - SUSS ACS300 Gen2. Преимущества нового поколения системы:

Компания SUSS MicroTec предлагает приставку к фотолитографическим установкам для перехода на нанотехнологии. Новая приставка для наноимпринт-литографии позволяет установкам совмещения SUSS выполнять структуры от 50 нм до нескольких сотен микрометров с разрешением до нескольких нанометров.

Ультрафиолетовая наноимпринт-литография (UV-NIL) представляет собой недорогую технологию, основанную на отверждении при воздействии ультрафиолета. Она была разработана в качестве более дешевой альтернативы электронно-лучевой литографии высокого разрешения для формирования геометрических элементов размерами от 20 нм. Перспективные применения технологии UV-NIL включают изготовление полупроводниковых изделий, микро-опто-электро-механических систем (MOEMS), нано-электро-механических систем (NEMS) и оптоэлектронных приборов. С помощью данного набора средств можно с минимальными затратами модернизировать любую уже применяемую установку совмещения (MJB4, MA6) компании SUSS. Так компания SUSS MicroTec предлагает своим клиентам просто и быстро войти в мир нанотехнологий. Подробнее - здесь

Новый микроскоп для зондовых станций SUSS iVista поможет повысить производительность труда операторов и инженеров. Благодаря уникальной конструкции микроскоп обеспечивает получение изображений, сопоставимых по четкости со снимками, сделанными 16-мегапиксельной цветной фотокамерой. Это означает, что можно легко и быстро выделить даже самые тонкие детали, а 40-кратный цифровой «зум» позволит увидеть не просто цветную мозаику, а более детальное изображение. Предусмотрена возможность сохранения снимков в полном разрешении и коллажей из нескольких кадров. Интересной особенностью iVista является поддержка отображения видов с нескольких ракурсов одновременно. За счет этого, например, пользователь может выделить и зафиксировать изображение интересующего участка, одновременно удерживая в поле зрения цельную картину. Микроскоп поддерживает работу с несколькими камерами одновременно, и может быть интегрирован в состав автоматических тестовых станций SUSS (например, SUSS PA200)