Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Киевская, 7

Plasma Therm Versaline – плазмохимические платформы с широкими возможностями

Новости компании       19/05/2020 12:00

Международная компания Plasma-Therm, основанная в 1974 году в США, является производителем высокотехнологичного плазмохимического оборудования для микроэлектронной отрасли. В июне 2018 года наш давний партнер компания Corial перешла под контроль группы компаний Plasma-Therm, о чем было объявлено в официальном пресс-релизе на сайте компании.

С мая 2020 компания ТБС является официальным представителем Plasma-Therm. В августе 2019 года наши инженеры прошли обучение в тренинг центре компании Plasma-Therm во Флориде и сертифицированы на запуск и обслуживание всей линейки оборудования Plasma-Therm VERSALINE.

Подробная информация о модульной платформа VERSALINE уже доступна на нашем сайте.

Основные  плазмохимические системы VERSALINE PECVD, VERSALINE ETCH и VERSALINE DSE с широкими возможностями модернизации обеспечивают эталонную эффективность и адаптивность для специализированных быстро развивающихся рынков высокотехнологичных производств – от НИОКР до крупных предприятий.

Основные возможности платформ VERSALINE:
  • Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
  • Гибкие возможности для работы с одной или несколькими пластинами на 279 мм (11‘’) электроде
  • Возможность работать с нестандартными подложками и носителями – идеальное решение для НИОКР или специальных проектов
  • Малая площадь основания для эффективного использования чистого помещения
  • Полноценные 2 МГц для оптимальной эффективности и снижения емкостных связей без экранирующей клетки Фарадея
  • Высокоскоростное бездефектное травление сквозных отверстий III-V (GaAs, InP)
  • Инновационные конфигурации, позволяющие работать как с отдельными пластинами, так и с партиями
  • Первоклассная технология моментального модулирования процесса с уникальными широтными характеристиками для глубокого травления кремния (DSE)
  • Большая библиотека процессов для электроники и фотоники
  • SiO2, S3N4, SiOxNy, a-Si:H, SiC или DLC пленки
  • SiOxNy с коррекцией по индексу (показателю преломления)
  • Контроль напряженности при работе с SiNx без низкочастотных повреждений
  • SiO2 с низкой напряженностью
  • Модернизируемые варианты загрузки подложек
Более подробную информацию вы всегда можете получить у наших менеджеров по телефону
(495) 287 8577 или отправив запрос на электронную почту infos@tbs-semi.ru

Наверх