Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Высокоточная система нанесения от фирмы SUSS


Точное нанесение фоторезиста является одним из ключевых шагов в процессах фотолитографии. Помимо основных критериев, таких как безпузырьковое распыление, равномерность нанесения зависит также от точности и скорости потока. До недавнего времени высокоточное распыление могли обеспечить только системы с поршневыми насосами. Однако компания SUSS Microtec представила нагнетательную систему распыления, которая готова занять эту нишу.

Воспроизводимость объема распыления ± 1 % (3 σ) и точность ± 2 % достигается с помощью высокотехнологичных инструментов контроля и мониторинга. Более того, датчик потока, расположенный в максимально удаленной точке, позволяет отслеживать фактическую скорость потока для точного управления системой. Программно реализованные алгоритмы являются основой функционирования системы, которую можно использовать для распыления реагентов вязкостью от 1 сПз до 10 000 сПз.

Точность высокопроизводительного насоса, изготовленного из стандартных деталей

Использование интеллектуальных датчиков в критически важных точках в сочетании с оптимизированными алгоритмами контроля обеспечивает превосходную производительность системы.

  • Датчик потока: измерение в точке распыления.
  • Датчик образования пузырьков: располагается в месте, где остается достаточно резиста для завершения текущего нанесения. В следующем шаге пузыри можно выдуть наружу без повреждения пластины.
  • Уменьшение размера трубки по ходу линии приводит к большей устойчивости к образованию пузырьков.
  • Использование меньшего давления (<1 бар) для получения необходимого потока. По сравнению с другими насосами, для которых требуется давление до 5 бар.

На рисунке 1 представлена производительность системы нанесения фоторезиста компании SUSS в сравнении с другими системами, доступными и популярными на рынке.

Сравнение системы распыления SUSS и других систем на рынке.jpg
Рис. 1. Сравнение системы распыления SUSS и других систем на рынке

Снимок экрана управляющей программы с изображением зависимости скорости потока от времени.jpg
Рис. 2 Снимок экрана управляющей программы с изображением зависимости скорости потока от времени

Различные фазы нанесения на форсунке
Рис. 3 Различные фазы нанесения на форсунке – корреляцию см. на Рис.2

Различные фазы нанесения на форсунке.jpg

Регистрация данных потока

Система отслеживает и регистрирует каждое нанесение в режиме реального времени. На рисунке 2 изображен снимок экрана управляющей программы, на котором отмечены и описаны различные фазы нанесения.

На рисунке 2 представлены различные фазы стандартного процесса нанесения, который разделен на 5 шагов:



  1. Начало – объем обратного отсоса выталкивается практически одновременно с наращиванием потока нанесения. Это гарантирует, что никакие факторы не повлияют на точность нанесения.
  2. и 3 Непрерывный поток – на рисунке изображен постоянный поток в течение периода нанесения.
  1. Конец нанесения – снижение скорости потока, закрытие клапана распыления. Как видно на изображении, перед последним шагом на форсунке висит небольшая капля резиста.
  2. После обратного отсоса – активация клапана обратного отсоса затягивает каплю резиста обратно в линию.
Наложение 10 графиков нанесения.jpg
Рис. 4 Наложение 10 графиков нанесения

Скорость и объем обратного отсоса настраиваются в программе, которая помогает оптимизировать процесс нанесения под различные требования или вязкость материалов. Все это позволяет оценить точность контроля и управления системы нанесения SUSS.

Наложение нескольких графиков нанесения на Рис.4 демонстрирует воспроизводимость результатов и стабильность системы.

Адаптивность системы (изменения температуры и вязкости)


Система нанесения фоторезиста SUSS нечувствительна к изменениям температуры и вязкости. Точность системы остается в нормативных пределах даже при существенном изменении температуры. Благодаря этому система меньше зависит от температурно-регулируемых условий, что снижает эксплуатационные расходы.

Оптимизация для получения нанесения по типу прямоугольной волны.jpg
Рис. 5 (1) Оптимизация для получения нанесения по типу прямоугольной волны

Оптимизация для получения выброса в начале и в конце нанесения.jpg
Рис. 5 (2) Оптимизация для получения выброса в начале и в конце нанесения

Оптимизация для получения замедленного начала и конца процесса.jpg
Рис. 5 (3) Оптимизация для получения замедленного начала и конца процесса

Полный контроль нанесения (настройка начала и завершения):

Поскольку для процессов могут требоваться различные условия потока, система нанесения SUSS предлагает множество вариаций и позволяет оптимизировать профиль нанесения. Пользователь может быть уверен, что процесс соответствует конкретным требования, и система функционирует стабильно.

На Рис. 5 представлено общее описание возможных изменений характеристик нанесения.

Рис. 5 (1): Нанесение в форме числового квадрата.

Рис. 5 (2): Нанесение с пиком в начале и в конце. Кривую пика можно также оптимизировать в соответствии с требованиями процесса.

Рис. 5 (3): Нанесение со сглаженным началом и завершением процесса.

Результаты.jpg

Результаты.jpg
Рис. 6 Результаты

Точность и воспроизводимость в диапазоне потока:

Точность и воспроизводимость системы находятся в пределах ± 2 % и ± 1 % соответственно. Результаты нанесения резиста объемом 5 и 10 мл представлены на Рис. 6 и подтверждают, что полученные значения находятся в пределах данной спецификации.

Обзор

Система нанесения SUSS была разработана с акцентом на производительности и простоте эксплуатации. Ее можно использовать для нанесения объемов резиста от 5 до 25 мл с точностью ± 2 % и воспроизводимостью ± 1 %. Система предлагает различные возможности контроля и управления профилем нанесения непосредственно в точке нанесения в режиме реального времени. Поскольку система позволяет оптимизировать различные параметры, такие как, например, начало и конец нанесения, весь профиль нанесения можно адаптировать под требования конкретного процесса. Это помогает пользователю настроить систему для работы с материалами различной вязкости.


Оборудование
SUSS Gamma cluster system
Германия

SUSS Gamma cluster system

Система SUSS Gamma – полностью автоматическая, что обеспечивает гибкость, чи ...

SUSS ACS200 Gen3
Германия

SUSS ACS200 Gen3

Обеспечивает полный цикл процессов при литографии, включая нанесени ...

SUSS ACS300 Gen2
Германия

SUSS ACS300 Gen2

SUSS ACS300 Gen2 – это модульная кластерная система для нанесения и проявлен ...

Suss RCD8
Германия

Suss RCD8

Платформа нанесения и проявления резиста RCD8 может быть собрана из различны ...

Популярные статьи
Технологии NIL и SCIL, ответы на вопросы

Технологии NIL и SCIL, ответы на вопросы

Технологии NIL (Nano-Imprint Lithography, наноимпринт-литография) и SCIL (Substrate Conformal Imprin ...

Что такое нанотехнологии и как организовать производство конечного нанотехнологического продукта

Что такое нанотехнологии и как организовать производство конечного нанотехнологического продукта

В последнее время понятие "нанотехнологии" стало очень модным. Слышно много рассуждений о перспектив ...

Лампа с UV-LED – технологии будущего в устройствах экспонирования

Лампа с UV-LED – технологии будущего в устройствах экспонирования

Новая, инновационная лампа с UV-LED от компании SUSS MicroTec для процессов фотолитографии ...

Инновационная Экспонирующая оптика SUSS MO

Инновационная Экспонирующая оптика SUSS MO

Новая и инновационная экспонирующая оптика для установок совмещения фирмы SUSS ...

Наверх