Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Инновационная Экспонирующая оптика SUSS MO


Представляет уникальную технологию компании SUSS для установок совмещения полупроводниковых пластин:

Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS.jpg
  • В основе оптические интеграторы высокого качества
  • Непревзойденная равномерность освещения
  • Сочетает оптические характеристики оптики SUSS HR (высокого разрешения) и LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
  • Обеспечивает гибкость формы освещения для
    оптимизации результатов печати

Оптика доступна для:

НОВАЯ концепция экспонирования: MO-оптика


MO-интегратор(1).jpg

Уменьшение дифракции.jpg
  MO-интегратор (2).jpg
MO-интегратор(1)
Расщепляет освещение
  Уменьшение дифракции
Определение настроек освещения
пластиной фильтра
"Элемент для определения угла"
  MO-интегратор (2)
Обеспечивает равномерное
освещение поля фотошаблона


Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS.jpg

Suss ma ba6 СИСТЕМА УМЕНЬШЕНИЯ ДИФРАКЦИИ.png   Suss ma ba6 СИСТЕМА УМЕНЬШЕНИЯ ДИФРАКЦИИ.png
Сильные эффекты дифракции от параллельного освещения   уменьшающая дифракцию оптика компании SUSS
Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS




Основа технологии: Два интегратора Келера с микролинзами


Два интегратора Келера с микролинзами.jpg

Экспонирующая оптика SUSS MO


Экспонирующая оптика SUSS MO.jpg
Экспонирующая оптика SUSS MO.jpg

Инновационное освещение для установок совмещения SUSS: МО-оптика


Экспонирующая оптика SUSS MO.jpg
MO-оптика.jpg
  • Лучшая равномерность (± 2.5%)
  • Настройки SUSS HR (высокое разрешение) a LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
  • Гибкие настройки освещения благодаря быстрой и простой замене пластины фильтра IFP
  • Расщепление источника света
Гибкое формирование луча с помощью различных пластин фильтров освещения.jpg
Гибкое формирование луча с помощью
различных пластин фильтров освещения

Улучшенная равномерность – независимо от положения лампы


Отличная равномерность освещения независимо от смещения лампы и ухудшения работы электродов в процессе эксплуатации

Равномерность света.jpg
Равномерность света: <2.0% MA/BA6 MO-оптика (HR-IFP)
Положение лампы: Не критично!

Положение лампы.jpg

Наклон лампы: Не критичен!

  Наклон лампы.jpg



Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения


Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения.jpg

Эффективность оптики SUSS – HR / LGO vs. MO


HR - оптика


LGO -оптика


HR -оптика. Зазор экспонирования - 20 мкм Разрешение - 275 мкм (HR).jpg
  HR -оптика. Зазор экспонирования - 50 мкм Разрешение - 45 мкм (HR).jpg
  LGO -оптика. Зазор экспонирования - 100µm Разрешение - 6мкм(LGO).jpg
  LGO -оптика. Зазор экспонирования - 300 мкм Разрешение - 12 мкм (LGO).jpg
Зазор экспонирования:
20 мкм
Разрешение:
2,75 мкм (HR)
  Зазор экспонирования:
50 мкм
Разрешение:
4,5 мкм (HR)
  Зазор экспонирования:
100 мкм
Разрешение:
6 мкм(LGO)
  Зазор экспонирования:
300 мкм
Разрешение:
12 мкм (LGO)

MO - оптика


MO - оптика. Зазор экспонирования - 20 мкм Разрешение - 275 мкм (IFP-HR).jpg
  MO - оптика. Зазор экспонирования - 50 мкм Разрешение - 45мкм (IFP-HR).jpg
  MO - оптика. Зазор экспонирования - 100 мкм Разрешение - 6 мкм (IFP-LGO).jpg
  MO - оптика. Зазор экспонирования - 300 мкм Разрешение - 12 мкм (LGO).jpg
Зазор экспонирования:
20 мкм
Разрешение:
2,75 мкм (IFP-HR)
  Зазор экспонирования:
50 мкм
Разрешение:
4,5мкм (IFP-HR)
  Зазор экспонирования:
100 мкм
Разрешение:
6 мкм (IFP-LGO)
  Зазор экспонирования:
300 мкм
Разрешение:
12 мкм (LGO)

AZ4110, толщина пленки 1.2 мкм (%U <0.5) : Si W-150
MA6, лампа 1000 Ватт, свет широкого спектра
Оценка :: микроскоп Olympus (верхнее изображение)

Спецификации оптики


SUSS MicroTec – лист спецификаций и общие данные оптики. Информация для MJB4 и MA8 пока не подтверждена на 100%

MA6/MA150e (UV400 - W150)
Характеристика A-оптика (HR) LEGO-оптика MO-HR (IFP A) MO-LGO (IFP Circle 22,5)
Равномерность
(P405)
5%
5% 2,5%
2,5%
Интенсивность
(P405 @ 1000Вт)
70 мВт/см² 35 мВт/см² 40 мВт/см² 30 мВт/см²
Интенсивность
(P365 @ 1000Вт)
35 мВт/см² 18 мВт/см² 20 мВт/см² 15 мВт/см²
*Равномерность и интенсивность, измеренные с помощью УФ-оптометра SUSS

Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения


MO-оптика позволяет точно формировать
  • Угловые спектры
  • Частичную когерентность
света в установке совмещения полупроводниковых пластин

Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения.jpg
Действие оптимизированной пластины фильтра освещения (резист 1,3 мкм, зазор экспонирования 100 мкм, квадраты 10 мкм на фотошаблоне)

Пример: Улучшение краев и углов линий


MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце
MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце.jpg

Пример: тестирование MO-оптики Tests при FhG-IOF: полутоновая литография


Литография с микрозазором, зазор 10 мкм, тот же рисунок фотошаблона (точки 450 нм на решетке 2 мкм)

#2588 Malteser 0°IFP LV1.0   #2589 Ring IFP LV0.5   #2590 Malteser 45°IPF LV1.0   #2591 ohne Blende
2588 Malteser 0IFP LV1.0.jpg
  2589 Ring IFP LV0.5.jpg
  2590 Malteser 45IPF LV1.0.jpg
  2591 ohne Blende.jpg

Заключение


Характеристики и преимущества экспонирующей МО-оптики
Характеристика Преимущество

Равномерность освещения 2,5%

Лучшая равномерность освещения ведет к большей равномерности размеров элементов (прямая корреляция)

IFP-HR плюс IFP-LGO

Одна оптическая система вместо двух -> экономия времени (замена оптики: с 30 мин. до 1 мин.) и средств (одна МО-система на 30% дешевле, чем 1хHR + 1xLGO)

Расщепление источника света

Экономит время настройки или обслуживания при замене лампы или ежедневного планового осмотра для проверки/подстройки равномерности освещения (мин. 10 мин.)

Специальное освещение

Предлагает возможность дальнейшей оптимизации самого результата печати. Это позволяет расширить технологическое окно для наших клиентов и позволяет им проявлять или создавать новые изделия.

MO-оптика является инновационной и передовой технологией в области установок пошагового экспонирования, которая теперь доступна и для традиционных систем совмещения полупроводниковых пластин. Она демонстрирует мастерство компании SUSS в производстве ключевых технологий.

Оптика доступна для:

Оборудование
SUSS MA/BA6
Германия

SUSS MA/BA6

Ручная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии и ...

SUSS MA/BA8 Gen3
Германия

SUSS MA/BA8 Gen3

SUSS MA/BA8 Gen3 разработана для выполнения литографических процессов, подде ...

SUSS MA150e
Германия

SUSS MA150e

Система MA150e является версией следующего поколения популярной установки со ...

SUSS MJB4
Германия

SUSS MJB4

Ручная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии б ...

SUSS MA/BA 6/8 Gen4
Германия

SUSS MA/BA 6/8 Gen4

Серия MA/BA 6/8 Gen4 является новейшим поколением полуавтоматических систем ...

Популярные статьи
Высокоточная система нанесения от фирмы SUSS

Высокоточная система нанесения от фирмы SUSS

Точное нанесение фоторезиста является одним из ключевых шагов в процессах фотолитографии ...

Лампа с UV-LED – технологии будущего в устройствах экспонирования

Лампа с UV-LED – технологии будущего в устройствах экспонирования

Новая, инновационная лампа с UV-LED от компании SUSS MicroTec для процессов фотолитографии ...

Наверх