Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Французская Corial запускает новую систему Corial 200D
Новости партнёров 09/04/2012 17:41Обеспечивающую осаждение диэлектрических пленок ICP-CVD и травление в индуктивно связанной плазме ICP в одном реакторе. Данная система предоставляет возможность сокращения затрат тем пользователям, которые используют оба процесса для производства полупроводниковых устройств.
Полный спектр поставляемых нашей компанией установок Corial можно посмотреть здесь.