Ультрафиолетовая наноимпринт-литография (UV-NIL) представляет собой недорогую технологию, основанную на отверждении при воздействии ультрафиолета. Она была разработана в качестве более дешевой альтернативы электронно-лучевой литографии высокого разрешения для формирования геометрических элементов размерами от 20 нм.

Перспективные применения технологии UV-NIL включают изготовление полупроводниковых изделий, микро-опто-электро-механических систем (MOEMS), нано-электро-механических систем (NEMS) и оптоэлектронных приборов. С помощью данного набора средств можно с минимальными затратами модернизировать любую уже применяемую установку совмещения (MJB4, MA6) компании SUSS. Так компания SUSS MicroTec предлагает своим клиентам просто и быстро войти в мир нанотехнологий.