Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Выпущена новая оптика для установок экспонирования SUSS MicroTec под названием "MO Exposure Optics"
Новости партнёров 09/04/2012 17:01Она позволяет:
- увеличить равномерность засветки до ± 2,5% на 6 дюймах(менее 1% на 2 дюймах)
- увеличить интенсивность засветки до 25%
- увеличить разрешение при контакте с зазором
- управлять снижением дифракции, не меняя оптику
- применять различные формы засветки
MO-оптика предоставляется с полной библиотекой установок засветки, включая А-оптику, B-оптику, D-оптику, HR и LGO-оптику, плюс дополнительные установки круговой засветки, квадратной и мальтийским крестом (0°, 45°). Простой заменой пластин с фильтрами достигается нужное сокращение дифракции для увеличесния глубины фокуса и ширины засветки при уменьшении факторов ошибки шаблона.
Оптика может быть установлена во все современные модели установок совмещения и экспонирования SUSS MicroTec - как ручные MJB4, MA/BA6, MA8, так и автоматические MA150, MA200 Compact, MA300 и полностью совместима со всеми системами засветки.