Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Комбинированная установка для нанесения и сушки фоторезиста Sawatec SM-200/HP-200 duo

Швейцария
  • картинка

Комбинированная система SM-200/HP-200 duo от SAWATEC сочетает в себе модуль центробежного нанесения покрытия и нагревательную плиту. Устройства линейки Duo демонстрируют убедительные рабочие качества благодаря своей надежной конструкции и гибким возможностям совмещения с другими системами даже при обработке подложек разных размеров

Производитель: Sawatec
Страна производитель: Швейцария

Основные возможности:

  • До 50 программ с 24 программируемыми шагами в каждой
  • Функция быстрого запуска для повторных процессов
  • Простая и доступная конфигурация с помощью сенсорной панели
  • Технологические параметры: скорость, ускорение, время
  • Возможность выбора направления вращения (по часовой стрелке, противчасовой стрелки)
  • Система RCCT (круглой закрытой камеры)
  • Динамический манипулятор для работы с 4 линиями подачи материала
  • Загрузка и разгрузка подложек вручную
  • Фиксация подложки с помощью вакуума и защитных блокировок
  • Звуковой сигнал после завершения обработки
  • Контроль температуры с помощью цифровых меток и дисплея с фактическими значениями
  • Автоматический датчик температуры, отсутствие перегрева
  • Доступно постепенное наращивание нагрева (20 шагов программы)
  • Зазор и загрузочные штифты программируются под разные размеры подложек

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Комбинированная система SM-200/HP-200 duo от SAWATEC сочетает в себе модуль центробежного нанесения покрытия и нагревательную плиту. Устройства линейки Duo демонстрируют убедительные рабочие качества благодаря своей надежной конструкции и гибким возможностям совмещения с другими системами даже при обработке подложек разных размеров.

Комбинированные системы идеально подходят для лабораторий, НИИ и пилотных проектов и доступны в компактном размере мобильных шкафов.

Центробежный модуль нанесения SM-200


Модуль SM-200 является прекрасным выбором благодаря высокой степени равномерности нанесения, стабильности и воспроизводимости результатов в сочетании с простой и удобной эксплуатацией. Инновационная система RCCT (технология закрытой круглой камеры) эффективно уменьшает завихрение воздуха над вращающейся подложкой и улучшает равномерность нанесения, поскольку атмосфера в закрытой камере быстрее насыщается растворителями, благодаря чему резист медленнее засыхает. Это позволяет добиться более однородного покрытия при значительной экономии материалов.

Характеристики (базовая конфигурация)

Sawatec SM-200 HP-200 duo Характеристики.jpg
  • До 50 программ с 24 программируемыми шагами в каждой
  • Функция быстрого запуска для повторных процессов
  • Простая и доступная конфигурация с помощью сенсорной панели
  • Технологические параметры: скорость, ускорение, время
  • Возможность выбора направления вращения (по часовой стрелке, против часовой стрелки)
  • Система RCCT (круглой закрытой камеры)
  • Динамический манипулятор для работы с 4 линиями
    подачи материала
  • Загрузка и разгрузка подложек вручную
  • Фиксация подложки с помощью вакуума и защитных
    блокировок
  • Звуковой сигнал после завершения обработки

Параметры

Sawatec SM-200 HP-200 duo Параметры.jpg
  • Скорость: от 1 до 6 000 об/мин +/-1 об/мин. (опционно 10 000 об/мин. для подложек меньше 8")
  • Расхождение заданной и фактической скорости < +/-1%
  • Ускорение: 0 – 6 000 об/мин. за 0,6 сек
  • Задержка: 6 000 об/мин – 0 за 0,6 сек.
  • Время обработки до 9 999 секунд с шагом 0,1 сек
  • Продолжительность дозирования 999 сек/сегмент

Дополнительные функции (опции)

Sawatec SM-200 HP-200 duo Автоматическая очистка сопел.jpg
Автоматическая очистка сопел
  • Автоматическая система нанесения, стеклянный шприц CDS-50 объемом 50 мл
  • Автоматическая очистка сопел с помощью насоса FP-20 для подачи растворителя
  • Дополнительная линия нанесения с точным дозирующим насосом GSP-98
  • Ножной переключатель пуск/стоп для простоты эксплуатации (длина кабеля 1,8 м)
  • Система удаления наплывов резиста с верхней стороны (EBR круговая, EBR круговая и линейная)
  • Защитная втулка чаши из PE или алюминия
  • Устройство для совмещения полупроводниковых пластин 2"-8" (круглых)

Sawatec SM-200 HP-200 duo Дополнительная линия нанесения с дозирующим насосом.jpg
  Sawatec SM-200 HP-200 duo Ножной переключатель пуск-стоп.jpg
Дополнительная линия нанесения
с дозирующим насосом
  Ножной переключатель пуск/стоп

Нагревательная плита HP-200


Нагревательная плита HP-200 предназначена для первой и второй сушки фоторезиста в процессах литографии и МЭМС. Температурный диапазон по умолчанию - до 250°C. Заданная температура и температурный профиль имеют незначительное расхождение, что позволяет добиться высокого качества нанесения резиста. Устройства линейки НР демонстрируют убедительные рабочие качества благодаря высокому уровню равномерности нагрева и высокоточной воспроизводимости процессов. Они могут использоваться для подложек диаметром до 200 мм толщиной максимум 18 мм.

Характеристики (базовая конфигурация)

Sawatec SM-200 HP-200 duo Регулируемые штифты зазора и защитное стекло.jpg
Регулируемые штифты зазора и защитное стекло

Sawatec SM-200 HP-200 duo Крышка с продувкой N2 и праймированием ГМДС.jpg
Крышка с продувкой N2 и праймированием ГМДС
  • постепенное наращивание нагрева (20 шагов программы)
  • Зазор и загрузочные штифты программируются под разные размеры подложек
  • Нагревательная плита с защитным стеклом, легкая очистка
  • Простое выравнивание нагревательной плиты предупреждает стекание фоторезиста
  • Простое и доступное конфигурирование с помощью сенсорной панели
  • Фиксация подложки вручную с помощью вакуума
  • Загрузка и разгрузка подложек вручную

Параметры

  • Диапазон температуры: температура окружающей
    среды до 250°C
  • Точность температуры: +/- 0,6°C при 100°C
  • Штифты зазора и загрузки с электрическим приводом
    (шаг 8 мм)
  • Регулируемые штифты зазора с программным управлением
    (с шагом 0,1 мм)

Дополнительные функции (опции)

  • Продувка азотом с программным управлением, отсутствует окисление
  • Праймирование ГМДС с программным контролем, оптимизация
    склеивания
  • Простая настройка для получения оптимального совмещения
    нагревательной плиты

Конструкция и размеры

  • Компактный, эргономичный дизайн
  • Сенсорная панель с цветным дисплеем 3,5"
  • Мобильный шкаф из электрополированной нержавеющей стали
  • Размер шкафа: 1200 x 750 x 2331 мм (Д x Ш x В)
  • Вес прим. 240 кг

SM-200

  • Чаша из PETP для высокой степени совместимости материалов
  • Отсутствует разбрызгивание резиста благодаря специальному щиту из PETP
  • Высокоточный, высокодинамичный серводвигатель переменного тока

HP-200

  • Нагревательная плита: 250 x 250 мм, анодированный алюминий
  • Крышка: пневмопривод, анодированный алюминий
  • Зазорные штифты изготовлены из Inconel Ø 1 мм, диаметры круга штифтов Ø 45 мм (2") / Ø 92 мм (4") / Ø 142 мм (6") / Ø 192 мм (8")
   
Sawatec SM-200 HP-200 duo Габариты.png  Sawatec SM-200 HP-200 duo Габариты.png

Коммуникации

Sawatec SM-200 HP-200 duo КОММУНИКАЦИИ.jpg
 
Sawatec SM-200 HP-200 duo Коммуникации.jpg
  • 230 В переменного тока 50/60 Гц 15A (1200 Вт)
  • Разъем для ножного переключателя
  • Технический вакуум, трубка Ø 6/4 мм (-0,8 бар)
  • Сжатый воздух, трубка Ø6/4 мм (6 бар)
  • Разъем N2, трубка Ø6/4 мм
  • Разъем ГМДС, трубка Ø6/4 мм
  • Подключение вытяжки SM Ø76 мм (40–60 м3/ч)
  • Подключение вытяжки HP Ø 40 мм

Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх