Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Нанесение, проявление и сушка

Подбор оборудования
Sawatec SM150 (SM180)
Швейцария

Sawatec SM150 (SM180)

Небольшие лабораторные центрифуги. Выпускаются как в собственном корпусе ...

Sawatec HP 150
Швейцария

Sawatec HP 150

Небольшие температурные камеры в базовой конфигурации. Применяется терми ...

Suss LabSpin 6/8
Германия

Suss LabSpin 6/8

Эти системы разработаны специально для нанесения резиста в лабораторных ...

Sawatec SM-200 (LSM-200)
Швейцария

Sawatec SM-200 (LSM-200)

В результате обновления линейки оборудования Sawatec, взамен популярной L ...

Sawatec HP 200
Швейцария

Sawatec HP 200

Небольшие температурные столы с расширенной конфигурацией. Имеются ...

Sawatec SMD-200 (LRD-250)
Швейцария

Sawatec SMD-200 (LRD-250)

Удобная установка для проявления, позволяющая производить проявление пол ...

Suss AS 8/12
Германия

Suss AS 8/12

Уникальная система нанесения спреем ...

Sawatec HP 401
Швейцария

Sawatec HP 401

Температурные столы с широкими возможностями для разнообразных целей при ...

SUSS Gamma cluster system
Германия

SUSS Gamma cluster system

Система SUSS Gamma – полностью автоматическая, что обеспечивает гибкость, чи ...

SUSS ACS200 Gen3
Германия

SUSS ACS200 Gen3

Обеспечивает полный цикл процессов при литографии, включая нанесени ...

SUSS AD12
Германия

SUSS AD12

Полуавтоматическая система для жидкостной обработки AD12 от компании SUSS M ...

SUSS SD 12
Германия

SUSS SD 12

Полуавтоматическая система для жидкостной обработки SD12 от компании SUSS M ...

Sawatec SMD-200-E (LRD-250-E)
Швейцария

Sawatec SMD-200-E (LRD-250-E)

Системы серии SMD предназначены для отмывки, проявления и травления полупро ...

Sawatec SM-200/HP-200 duo
Швейцария

Sawatec SM-200/HP-200 duo

Комбинированная система SM-200/HP-200 duo от SAWATEC сочетает в себе модуль ...

SAWATEC CS-200-4 sirius
Швейцария

SAWATEC CS-200-4 sirius

Кластерные системы SAWATEC являются идеальным решением для полностью автомат ...

SAWATEC CS-200-4 pioneer
Швейцария

SAWATEC CS-200-4 pioneer

Кластерные системы SAWATEC являются идеальным решением для полностью автомат ...

Suss RCD8
Германия

Suss RCD8

Платформа нанесения и проявления резиста RCD8 может быть собрана из различны ...

SUSS ACS300 Gen2
Германия

SUSS ACS300 Gen2

SUSS ACS300 Gen2 – это модульная кластерная система для нанесения и проявлен ...

Страница: 1 2
Перед операцией экспонирования необходимо нанести на подложку фоторезистивный слой и провести его термообработку. Лабораторные центрифуги позволяют осуществить нанесение фоторезиста. После нанесения центрифугированием следует сушка фоторезиста: производится нагрев подложек. После экспонирования следует операция проявления фоторезиста для окончательного создания фоторезистивной маски.
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх