Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Плазмохимическое травление и осаждение

Подбор оборудования
Corial D250 (L)
Франция

Corial D250 (L)

Установка осаждения диэлектриков . Эта PECVD -система предназначена для осаж ...

Corial 210IL (200I)
Франция

Corial 210IL (200I)

Эта система индуктивно связанной плазмы с вакуумным шлюзом предназначена ...

Corial 210D
Франция

Corial 210D

Низкотемпературная плазмохимическая установка осаждения диэлектриков (Si3N4 ...

Corial 210RL (200R)
Франция

Corial 210RL (200R)

Установка реактивно-ионного травления, которая предназначена для травления к ...

Corial 300S
Франция

Corial 300S

    Благодаря возможностям травления хрома и кварца система Cor ...

Эта категория оборудования реализует такие процессы как плазмохимическое осаждение и плазмохимическое травление. Принцип этих процессов сводится к распаду молекул реактивных газов за счет ионизации. Далее продукты распада газов либо реагируют с материалов подложки и образуют летучие соединения (реактивное ионное травление, травление в индуктивно связанной плазме) либо реагируют между собой и высаждаются на поверхности подложки в виде нового соединения (плазмохимическое осаждение диэлектриков). Этот класс процессов позволяет осуществлять плазмохимическое травление металлов и диэлектриков и плазмохимическое осаждение диэлектриков.
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх