Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Киевская, 7

Плазмохимическое травление и осаждение

Подбор оборудования
Corial D250 (L)
Франция

Corial D250 (L)

Установка осаждения диэлектриков . Эта PECVD -система предназначена для осаж ...

Corial 210IL (200I)
Франция

Corial 210IL (200I)

Эта система индуктивно связанной плазмы с вакуумным шлюзом предназначена ...

Corial 210D
Франция

Corial 210D

Низкотемпературная плазмохимическая установка осаждения диэлектриков (Si3N4 ...

Corial 210RL (200R)
Франция

Corial 210RL (200R)

Установка реактивно-ионного травления, которая предназначена для травления к ...

Corial 300S
Франция

Corial 300S

    Благодаря возможностям травления хрома и кварца система Co ...

Trymax NEO 200
Нидерланды

Trymax NEO 200

Установка плазменной обработки NEO 200 от компании Trymax Semi Conductor явл ...

Trymax NEO 200A
Нидерланды

Trymax NEO 200A

Платформа NEO 200A является самым современным пополнением в линейке систем п ...

Trymax NEO 2000
Нидерланды

Trymax NEO 2000

Установка плазменной обработки NEO 2000 от компании Trymax Semi Conductor яв ...

Trymax NEO 2400
Нидерланды

Trymax NEO 2400

Платформа NEO 2400 является самым современным пополнением в линейке систем п ...

Trymax NEO 300
Нидерланды

Trymax NEO 300

Установка плазменной обработки NEO 300 от компании Trymax Semi Conductor явл ...

Trymax NEO 300A
Нидерланды

Trymax NEO 300A

Установка плазменной обработки NEO 300A от компании Trymax Semi Conductor яв ...

Trymax NEO 3000
Нидерланды

Trymax NEO 3000

Платформа NEO3000 является одной из последних новинок в линейке систем полир ...

Trymax NEO 3400
Нидерланды

Trymax NEO 3400

Платформа NEO 3400 является одним из последних пополнений в линейке установо ...

Эта категория оборудования реализует такие процессы как плазмохимическое осаждение и плазмохимическое травление. Принцип этих процессов сводится к распаду молекул реактивных газов за счет ионизации. Далее продукты распада газов либо реагируют с материалов подложки и образуют летучие соединения (реактивное ионное травление, травление в индуктивно связанной плазме) либо реагируют между собой и высаждаются на поверхности подложки в виде нового соединения (плазмохимическое осаждение диэлектриков). Этот класс процессов позволяет осуществлять плазмохимическое травление металлов и диэлектриков и плазмохимическое осаждение диэлектриков.
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх