Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Установка плазмохимического травления индуктивно связанной плазмой Corial 210IL

Франция
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
картинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинка

Эта система индуктивно связанной плазмы с вакуумным шлюзом предназначена для плазмохимического травления GaN, GaAs, GaP, GaAlAs, InP, InGaAsP, ZnS, CdTe, AlN, InAs, Al и Si. Система может быть укомплектована CCD-камерой с лазерным датчиком, который в реальном времени измеряет толщину стравливаемого слоя. Программное обеспечение позволяет создать многошаговый процесс и полностью автоматизировать его

Производитель: Corial
Страна производитель: Франция
Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Основные возможности:

  • Уникальный дизайн специальных подложкодержателей позволяет адаптировать реактор под широкий спектр применений. Это позволяет оптимизировать систему для различных процессов и для различных типоразмеров подложек
  • Контроль параметров плазменного разряда
  • Датчик процесса плазмохимического травления полностью интегрирован в систему и в программное обеспечение. Это дает возможность определять скорость травления и толщину стравленного слоя в режиме реального времени с последующей автоматической остановкой процесса
  • Удалённый доступ и удалённое управление системой по сети internet
  • Все системы Corial созданы по модульному принципу. Оборудование может быть усовершенствовано от простой RIE системы до системы ICP с вакуумным шлюзом и расширенной газовой панелью
  • Возможна установка шлюза для сокращения времени откачки
  • Новое ПО COSMA Pulse позволяет реализовать БОШ-процесс

Инжиниринговые услуги:

Газовая обвязкаСистема анализа утечек и сигнализацииСистема бесперебойного электропитанияСистемы хранения и резервирования данныхСтанция водоподготовкиУтилизация опасных газов

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Corial 210IL (200I) - это установка плазмохимического травления в индуктивно связанной плазме под контролем программного обеспечения COSMA (COSMA Pulse) и ОС Linux (Fedora). Система предназначена для анизотропного плазмохимического травления GaN, GaAs, GaP, GaAlAs, InP, InGaAsP, ZnS, CdTe, AlN, InAs, Al и Si с использованием хлорсодержащих и фторсодержащих газов. Система может быть укомплектована CCD-камерой с лазерным датчиком, полностью интегрированной в программное обеспечение. Программное обеспечение позволяет создать многошаговый процесс и полностью автоматизировать его. Новое программное обеспечение COSMA Pulse  позволяет реализовывать Bosch-процесс.

Включает в себя следующие части:

  • Источник высокоплотной плазмы (диам 275 мм) с использованием ICP.  Плазма зажигается генератором в 2 МГц. ВЧ может устанавливаться в диапазоне от 100 до 1000 Вт и предоставляет следующие преимущества:
    • высокоплотная плазма ICP для высоких скоростей травления
    • давление от 5 до 100 миллиТор для равномерности
    • оптимизация индуктивного совмещения
    • низкий сдвиг напряжения для точного мониторинга
    • набор разных режимов травления RIE, ICP и RIE+ICP
  • Установка укомплектована сапфировым стеклом диаметром 25 мм для лазерной интерферометрии.
  • Катод диаметром 220 мм, который укомплектован:
    • верхней частью, сделанной из алюминия и охлаждаемой циркуляцией жидкого диэлектрика,
    • алюминиевым челноком с графитовым столом для установки и снятия (загрузки и выгрузки) изделия,
    • Различные подложкодержатели (алюминиевые, кварцевые, графитовые), устанавливаемые на верхнюю часть катода
    • гелиевым теплообменником между задней частью челнока и катодом с контролем потока,
    • MKS-измерителем электрического сопротивления для измерения давления гелия,
    • механическим зажимом челнока,
    • Катодный lift, который применяется для загрузки и выгрузки подложки и механического зажима челнока (управляется системным компьютером).
  • Насосную систему с высокой производительностью, специально разработанная для плазменных процессов. Она укомплектована:
    • безмасляным насосом Alcatel ADP 122Р производительностью 95 м3/ч,
    • турбомолекулярным насосом Alcatel ATН400 с магнитной подвеской (1000  sccm на 60 mT) с инертной (N2) газовой продувкой,
    • набором глубоковакуумных и обводных клапанов для грубого откачивания без остановки TMP,
    • отдельным измерителем для глубокого вакуума,
    • MKS-измерителем электрического сопротивления 0-1 Torr для контроля давления,
    • автоматическим контроллером давления с коротким временем отклика (меньше 1 секунды),
    • отдельной линией N2 для вентиляции реактора с электропневматическим клапаном
  • Систему электронного контроля, включающей:
    • контроллеры оборудования, базирующиеся на 19-дюймовой 6U полустойке (компьютер с процессором Celeron 400, 128 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и встроенным программным обеспечением, записанным на 128-Мб карту памяти Compact Flash).
    • контроллер процесса, размещающейся в 19-дюймовой 1 U стойке (компьютер с процессором 1,3 ГГц, 512 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и 80 Гб жестким диском).
  • Высоковольтные (220 и 400 вольт переменного тока) и низковольтные (5 вольт, 15 вольт (+ и -), 24 вольта (+)) источники питания.
  • Сетью совмещения на 13,56 МГц  с автоматическим сопротивлением до 300 Вт
  • 300 W ВЧ генератор  13.56 MHz с автоматическим контролем совмещения MKS-ENI,
  • * 1 KW - 2 MHz ВЧ генератор AE Dressler.
  • Вакуумный шлюз для ручной загрузки и автоматической подачи. Передает пластины в рабочую камеру на магнитном приводе с воздушной подачей (давление меньше 10-2  мм рт ст)
  • Программное обеспечение COSMA ( COSMA Pulse), работающее на LINUX, которое обеспечивает:
    • автоматическое переключение между шагами в мультишаговых процессах в соответствии с сигналами от датчика окончания процесса или таймеров. Число шагов каждого процесса может достигать 300. Число самих процессов ограничено только пропускной способностью контроллера жесткого диска. Система проверяет все параметры и отображает на дисплее ошибки, которые могут происходить. Каждый шаг процесса находится под пристальным мониторингом и четко контролируется, что дает высокую воспроизводимость (повторяемость) процесса и его работоспособность. Частью пакета программного обеспечения является запись информации с возможностью дальнейшего просмотра параметров уже завершенных процессов.
    • доступно четыре режима программы:
      • редактирование для подгонки параметров или создания новых параметров для процессов травления,
      • запуск процесса с его контролем в реальном времени и выводом всех параметров на дисплей,
      • оптимизация для разработки новых процессов с помощью интерактивного контроля процесса и его редактирования,
      • режим технического обслуживания для диагностики и калибровки системы.
    • система поддерживает высокоскоростное Интернет-соединение, защищенное брандмауэром, а так же соединение по VPN (виртуальной частной сети).
  • Персональный компьютер под управлением ОС Linux , укомплектованный:
    • процессором Intel Pentium ,
    • 512 Мб ОЗУ и жестким диском,
    • 17-дюймовым ЖК-монитором,
    • мышкой и клавиатурой.
  • Рамку и панель для оборудования.
  • Чиллер с хладагентом для контроля температуры реактора, турбомолекулярного насоса и катода. Температура от 5 до 25°С, потребляемая мощность при 20°С – 2,2 КВт.

Включает в себя следующие части:

Автоматический лазерный датчик окончания процесса с CCD -камерой для наблюдения за лазером (Ø25 µм) и предмета травления. Он укомплектован линзами с кратностью увеличения более 100 раз. Датчик измеряет степень травления, толщину протравленной поверхности и определяет окончание процесса. Также датчик укомплектован специальной поверхностью, двигающуюся в двух направлениях для точного позиционирования лазера.

Дополнительное оборудование:

  • Газораспределительная система, позволяющая автоматически управлять 5 газовыми линиями (до 8 линий) для реактивных газов. Поток газа контролируется расходомерами Horiba или Celerity. Каждая газовая линия включает в себя электропневматические 3-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном и ручные 2-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном. Стандартные MFCs 200 sccm O2, 200 sccm CHF3 и 50 sccm SF6.
  • 300 Вт ВЧ генератор (13.56 MГц) с автоматическим контролем согласования 
  • Чиллер NesLab для контроля температуры реактора, катода и насосов
  • Вакуумный шлюз для ручной загрузки и последующей автоматической подачи подложек в камеру с помощью роботизированной руки

Технические требования для установки Corial 210IL (200I)
• Электрообеспечение системы: 400 В (±10%) 3 фазы + нейтраль+ заземление / КВА, 50/60 Гц
• Электрообеспечение охладителя: 240 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 7 КВА, 50/60 Гц
* по умолчанию охладитель запитан от системы.
• Электрообеспечение ПК: 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,8 КВА, 50/60 Гц
• Электрообеспечение монитора: 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,4 КВА, 50/60 Гц
• Общее энергопотребление в режиме процессинга 10,3 КВт
• Общее энергопотребление в режиме ожидания 3,1 КВт
• Сухой чистый азот с регулятором давления (от 0 до 3 атм.). Регулятор заказывается покупателем
• Подводка азота: полиамидный шланг ᴓ4/6 мм
• Сжатый воздух, давление >7 атм., фитинг ᴓ4/6 мм, полиамидный шланг
• Вытяжка производительностью ≥ 10 м3/ч, соединение через ПВХ-трубу ᴓ80 мм
• Подводка газа трубами из нержавеющей стали (316 L) с клапанами и регуляторами давления от 0 до 3 атм
* для газов ( SF6, CHF3, CF4 и т.д.) должно быть установлено два регулятора
• Окончание подводки газа: фитинг ᴓ4/6 мм с разъемом VCR «мама»
• Качество газа – для электронной промышленности
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх