Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Установка плазмохимического реактивно-ионного травления Corial 210RL

Франция
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
картинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинка

Установка реактивно-ионного травления, которая предназначена для травления кремниевых сплавов SiO2 , Si3N4 и металлов ( W, Nb, Ta, Mo) с химией, основанной на фторировании

Производитель: Corial
Страна производитель: Франция

Основные возможности:

  • Установка стандартно укомплектована безмасляным насосом
  • Использование специальных челноков оптимизировано для каждого процесса перехода с кремниевого травления к травлению металлов. Это позволяет минимизировать эффект памяти и перезагрязнение.
  • Использование вакуумного замка обеспечивает безопасность и повторяемость процесса
  • Датчик завершения процесса полностью интегрирован в систему и в программное обеспечение. Это дает возможность контроля за процессом травления, определения степени травления в реальном времени и подсчет глубины травления с автоматической остановкой процесса

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Corial 210RL (200R) – это установка плазмохимического травления, которая предназначена для травления кремниевых сплавов SiO2 , Si3N4 и металлов (W, Nb, Ta, Mo) с химией, основанной на фторировании.
 Установка плазмохимического травления Corial 210RL.png    

Достоинства системы:


  • Установка плазмохимического травления стандартно укомплектована безмасляным насосом
  • Использование специальных челноков оптимизировано для каждого процесса перехода с кремниевого травления к травлению металлов. Это позволяет минимизировать эффект памяти и перезагрязнение.

  • Использование вакуумного замка обеспечивает безопасность и повторяемость процесса плазмохимического травления

  • Датчик завершения процесса травления полностью интегрирован в систему и в программное обеспечение. Это дает возможность контроля за процессом травления, определения степени травления в реальном времени и подсчет глубины травления с автоматической остановкой процесса.


 

Описание установки плазмохимического травления Corial 210RL (200R)

Установка плазмохимического травления с ручной системой загрузки под контролем компьютера с установленной ОС Linux (Fedora). Система использует фторированные реактивные газы для Si, SiO2, Si3N4, Ge, W, Ta, Ti, Nb, Mo и травления полимеров. Если система укомплектована CCD -камерой с лазерным датчиком окончания процесса травления, это дает возможность автоматической многошаговости процесса.


Включает в себя следующие части:


  • Камеру плазмохимического травления большого диаметра (300 мм). Она разработана для травления тонких пленок (Si, SiO2, Si3N4, полимеров и таких металлов, как W, Ta, Ti, Mo) на кремниевых подложках диаметром до 200 мм. Установка укомплектована двумя сапфировыми стеклами диаметром 25 мм (одно для лазерной интерферометрии, другое – для визуального контроля процесса травления).

  • Катод диаметром 220 мм, который укомплектован:

  • верхней частью, сделанной из алюминия и охлаждаемой циркуляцией жидкого диэлектрика,

  • алюминиевым челноком с графитовым столом для установки и снятия (загрузки и выгрузки) изделия,

  • гелиевым теплообменником между задней частью челнока и катодом с контролем потока,

  • MKS -измерителем электрического сопротивления для измерения давления гелия,

  • механическим зажимом челнока,

  • Катодным подъемником, который применяется для загрузки и выгрузки подложки и механического зажима челнока (управляется системным компьютером).


  • Насосную систему с высокой проводимостью (теплопроводностью) ( ISO 160, 150 мм), специально разработанная для плазменных процессов. Она укомплектована:

  • безмасляным насосом Alcatel ADP 122 O производительностью 95 м 3/ч,

  • турбомолекулярным насосом Alcatel ATP 900 C (900 л/с и 200 sccm на 10 mT ) с инертной ( N2) газовой продувкой,

  • набором глубоковакуумных и обводных клапанов для грубого откачивания без остановки TMP ,

  • отдельным измерителем для глубокого вакуума,

  • MKS -измерителем электрического сопротивления 0-1 Torr для контроля давления,

  • автоматическим контроллером давления с коротким временем отклика (меньше 1 секунды),

  • отдельной азотной линией для (отвода, подвода, циркуляции,вентиляции) реактора с электропневматическим клапаном


  • Систему электронного контроля , включающей:

  • контроллеры оборудования, базирующиеся на 19-дюймовой 6 U полустойке (компьютер с процессором Celeron 400, 128 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и встроенным программным обеспечением, записанным на 128-Мб карту памяти Compact Flash ),

  • контроллер процесса, размещающейся в 19-дюймовой 1 U стойке(компьютер с процессором 1,3 ГГц, 512 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и 80 Гб жестким диском).


  • Высоковольтные (220 и 400 вольт переменного тока) и низковольтные (5 вольт, 15 вольт (+ и -), 24 вольта (+)) источники питания

  • Распределительную камеру для газов, укомплектованную управляющей системой и тремя газовыми линиями (максимально до 9 газовых линий)для реактивных газов. Также комплектуется газовыми контроллерами потока UNIT .Каждая газовая линия включает в себя электропневматические 3-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном и ручные 2-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном.

  • Сетью сравнения на 13,56 МГц с автоматическим сопротивлением до 300 Вт

  • 300 Вт 13,56 МГц генератором RF с воздушным охлаждением на твердой основе с мониторингом прямой и отраженной мощности.

  • Программное обеспечение COSMA , работающее на LINUX , которое обеспечивает:

  • автоматическое переключение между шагами в мультишаговых процессах в соответствии с сигналами от датчика окончания процесса или таймеров. Число шагов каждого процесса может достигать 300. Число самих процессов ограничено только пропускной способностью контроллера жесткого диска.Система проверяет все параметры и отображает на дисплее ошибки, которые могут происходить. Каждый шаг процесса находится под пристальным мониторингом и четко контролируется, что дает высокую воспроизводимость (повторяемость) процесса и его работоспособность. Частью пакета программного обеспечения является запись информации с возможностью дальнейшего просмотра параметров уже завершенных процессов.


  • доступно четыре режима программы:
  • редактирование для подгонки параметров или создания новых параметров для процессов травления,
  • запуск процесса с его контролем в реальном времени и выводом всех параметров на дисплей,

  • оптимизация для разработки новых процессов с помощью интерактивного контроля процесса и его редактирования,

  • режим технического обслуживания для диагностики и калибровки системы.

  • система поддерживает высокоскоростное Интернет-соединение, защищенное брандмауэром, а так же соединение по VPN (виртуальной частной сети).

  • Персональный компьютер под управлением ОС Linux , укомплектованный:

  • процессором Intel Pentium ,

  • 512 Мб ОЗУ и жестким диском,

  • 17-дюймовым ЖК-монитором,

  • мышкой и клавиатурой.
  • Рамку и панель для оборудования.
  • Охладитель с хладагентом для контроля температуры реактора,турбомолекулярного насоса и катода. Температура от 5 до 25°С, потребляемая мощность при 20°С – 2,2 КВт.


Дополнительное оборудование


Автоматический лазерный датчик окончания процесса с CCD -камерой для наблюдения за лазером (Ø25 µм) и предмета травления. Он укомплектован линзами с кратностью увеличения более 100 раз. Датчик измеряет степень травления, толщину протравленной поверхности и определяет окончание процесса. Также датчик укомплектован специальной поверхностью, двигающуюся в двух направлениях для точного позиционирования лазера.

Технические требования для установки Corial 210RL (200R)


  • Электрообеспечение системы : 400 В (±10%) 3 фазы + нейтраль+ заземление / КВА, 50/60 Гц.

  • Электрообеспечение охладителя : 240 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 7 КВА, 50/60 Гц.

* по умолчанию охладитель запитан от системы.

  • Электрообеспечение ПК : 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,8 КВА, 50/60 Гц.
  • Электрообеспечение монитора : 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,4 КВА, 50/60 Гц.
  • Общее энергопотребление в режиме процессинга 10,3 КВт.
  • Общее энергопотребление в режиме ожидания 3,1 КВт.
  • Сбрасываемая мощность в чистую комнату в режиме процессинга 3,2  КВт
  • Сбрасываемая мощность в помещение перед чистой комнатой в режиме процессинга 3,5 КВт.
  • Сухой и фильтрованный азот с регулятором давления (от 0 до 3 атм.). Регулятор заказывается покупателем.
  • Подводка азота : полиамидный шланг Ø4/6 мм.
  • Сжатый воздух , давление >7 атм., фитинг Ø4/6 мм,полиамидный шланг.
  • Вытяжка производительностью ≥ 10 м 3/ч, соединение через ПВХ-трубу Ø80 мм.
  • Подводка газа трубами из нержавеющей стали (316 L ) с клапанами и регуляторами давления от 0 до 3 атм.

* для газов ( SF6CHF3CF4 и т.д.) должно быть установлено два регулятора

  • Окончание подводки газа : фитинг Ø4/6 мм с разъемом VCR«мама».

  • Качество газа – для электронной промышленности.
  • Дополнительно : телефонная линия с ADSL -технологией.

Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх