Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, ул. Киевская, д.7

Установка плазмохимического осаждения Corial D250

Франция
  • картинка
  • картинка
  • картинка
картинкакартинкакартинка

Установка осаждения диэлектриков . Эта PECVD -система предназначена для осаждения на подложки следующих пленок: SiO2, Si3N4, SixNy

Производитель: Corial
Страна производитель: Франция

Основные возможности:

  • Высокотемпературный изотермический реактор, находящийся внутри вакуумной камеры, обеспечивает высокую равномерность осаждения пленок.
  • Симметричный дизайн реактора позволяет проводить бомбардировку ионами пластины с достижением минимального стресса.
  • Плазменный реактор изготовлен из алюминия для обеспечения равномерного температурного распределения
  • Детектор окончания процесса полностью интегрирован в программное обеспечение и механику системы.

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта

Описание установки плазмохимического осаждения Corial D250 (L)

Камера нанесения основана на концепции высокотемпературного изотермического реактора, находящегося внутри вакуумной камеры. Во время процесса PECVD давление в вакуумной камере намного ниже, чем в реакторе. В результате не происходит загрязнения наносимой пленки диэлектриков кислородом от холодных стенок камеры.

Плазменный реактор имеет круглую форму диаметром 250 мм и позволяет располагать пластины диаметром до 200 мм (или 2 пластины по 100 мм). Газовый душ способствует высокоравномерному распылению газа на пластине. Используемые газы равномерно накачиваются вокруг подложкодержателя. Plasma Box окружен двумя нагревающими кабелями. ИК-рефлекторы позволяют избежать потери тепла. В результате подложкодержатель и реактор оказываются в печи с контролем температуры подложки ±1°C.


Включает в себя следующие части:

  • Контроллер Eurotherm 2408 и термопара позволяют производить нагрев подложки до 325°C. Симметричный дизайн реактора позволяет проводить бомбардировку пластины ионами с достижением минимального стресса.

  • Плазменный реактор изготовлен из алюминия, что позволяет избежать коррозии при травлении для чистки. Специальное окно позволяет использовать лазерный рефлектометр для определения скорости осаждения и толщины пленок.

  • Насосную систему , которая включает :

  • насос № 1: ALCATEL ADP 122 P со скоростью откачки 95 м³/ч,

  • насос № 2 : ALCATEL турбомолекулярный (100 л/с) с продувкой( N2),

  • набор клапанов для дополнительного вакуумного кольца защиты камеры в случае избыточного давления N2 и чистки камеры травлением,

  • измеритель высокого вакуума Penning ,

  • измеритель вакуума T20 - 2 Torr для контроля вакуума в реакторе и камере.

  • Электронные контроллеры для проведения процесса

  • Высоко- и низковольтные источники питания (220 VAC и 400 VAC) и (5 V , +15 V , -15 V и +24 V ).

  • Газовую панель с семью линиями (максимум 9 линий) для реактивных газов с расходомерами UNIT . Стандартные MFCs 50 sccm O2 , 200 sccm SF6 , 1000 sccm N2 , 1000 sccm He , 500 sccm NH3 , 500 sccm N2O и 100 sccmSiH4 .

  • 300 W 13.56 MHz охлаждаемый ВЧ-генератор.

  • Программное обеспечение COSMA , работающее на LINUX, включающее в себя:

  • автоматическое переключение между шагами в мультишаговых процессах в соответствии с сигналами от датчика окончания процесса или таймеров. Число шагов каждого процесса может достигать 300. Число самих процессов ограничено только пропускной способностью контроллера жесткого диска.Система проверяет все параметры и отображает на дисплее ошибки, которые могут происходить. Каждый шаг процесса находится под пристальным мониторингом и четко контролируется, что дает высокую воспроизводимость (повторяемость) процесса и его работоспособность. Частью пакета программного обеспечения является запись информации с возможностью дальнейшего просмотра параметров уже завершенных процессов.

  • доступно четыре режима программы:

  • редактирование для подгонки параметров или создания новых параметров для процессов,

  • запуск процесса плазмохимического осаждения с его контролем в реальном времени и выводом всех параметров на дисплей,

  • оптимизация для разработки новых процессов с помощью интерактивного контроля процесса и его редактирования,

  • режим технического обслуживания для диагностики и калибровки системы.

  • система поддерживает высокоскоростное Интернет-соединение,защищенное брандмауэром, а также соединение по VPN (виртуальной частной сети).

  • Персональный компьютер под управлением ОС Windows ,укомплектованный:

  • процессором Intel Pentium ,

  • 512 Мб ОЗУ и жестким диском,

  • 17-дюймовым ЖК-монитором,
  • мышкой и клавиатурой.

  • Рамку и панель для оборудования.

Дополнительное оборудование

Автоматический лазерный датчик окончания процесса с CCD -камерой для наблюдения за лазером (Ø25 µм) и предмета травления. Он укомплектован линзами с кратностью увеличения более 100 раз. Датчик измеряет степень травления, толщину протравленной поверхности и определяет окончание процесса. Также датчик укомплектован специальной поверхностью, двигающуюся в двух направлениях для точного позиционирования лазера.

Технические требования для установки Corial D 250 (L)


  • Электрообеспечение системы 400 B (±10%) 3 фазы + нейтраль +заземление / 7 КВА - 50 / 60 ГЦ.
  • Электрообеспечение охладителя 240 B (±10%) 1 фаза + нейтраль+ заземление / 7,5 КВА - 50 / 60 Hz .


* по умолчанию охладитель запитан от системы.

  • ЭлектрообеспечениеПК 240 В или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль / 0.8 КВА - 50 / 60 Гц.

  • Электрообеспечение монитора 240 В или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль / 0.4 КВА - 50 / 60 Гц
  • Общее энергопотребление при работе: 10,3 КВт
  • Общее энергопотребление при подготовке: 3,1 КВт
  • Сухой и фильтрованный азот с регулятором от 0 до 3 атм.(Предоставляется заказчиком), полиамидный шланг Ø4/6 мм.
  • Сжатый воздух > 7 атм., полиамидный шланг Ø4/6 mm
  • Вытяжка ≥10 м 3/ч, Через ПВХ DN 40 (Предоставляется заказчиком)
  • Вытяжка для газа ≥100 м 3/ч, Через ПВХ Ø80 mm (Опция)
  • Газовые линии марки 316 L с клапанами и регуляторами от 0 до 3 атм. (Предоставляется заказчиком)

* Внимание: Для газов ( SF6 , CHF3 , CF4 , и т.д.) необходима установка двух регуляторов.

  • Окончание линий Ø4/6 мм с коннектором VCR «мама»
  • Чистота газов – для электронной промышленности

  • Дополнительно : телефонная линия ADSL (опция для удаленного доступа)

Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх