Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Центрифуга для нанесения фоторезиста Sawatec SM-200
В результате обновления линейки оборудования Sawatec, взамен популярной LSM-200 с марта 2016 года поставляется SM-200
Производитель: Sawatec
Страна-производитель: Швейцария
Основные возможности:
- Ручная загрузка подложек
- Обрабатывает пластины до 200 мм (8") или квадратные подложки до 150х150 мм (6х6")
- Фиксация подложки вакумом с блокировкой мотора при потере вакуума
- Легкая и быстрая замена держателей без специальных инструментов
- Блок для процессов сделан модульным, что позволяет легко проводить очистку
- Автоматическая подающая система с дозирующей помпой для плотностей до 800 сантипуаз (опционально до 50 000 сантипуаз)
- Автоматическое распознавание размера держателя с автоматическим ограничением скорости вращения
- Сенсорный дисплей 5,7" с логическим контролем
- Контроллер процесса с возможностью запоминания до 10 рецептов
- Один рецепт может программироваться до 24 пар значений скорость/время
- Безщеточный сервомотор переменного тока с преобразователем до 12 000 об/мин
- Ускорение с держателем 4-5" от 1 до 6 000 об/мин (по запросу до 10 000)
- Точность вращения мотора +/-1 об/мин
Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Установка нанесения фоторезиста SM-200
Оптимальный выбор для полуавтоматического нанесения резиста центрифугированиемЦентрифуги SM-200 являются оптимальным выбором для процессов полуавтоматического нанесения тонких слоев. Они используются для подложек с очень низкими поверхностными структурами или без них. Все коммерческие фоторезисты и покрывающие материалы наносятся однородно и равномерно на поверхность полупроводниковых пластин размером до 200 мм (8 дюймов) или подложки 150х150 мм.
Центрифуга может быть выпущена для обработки пластин 250/300/600 мм (по запросу)
Система RCCT (технология круглой закрытой камеры) эффективно уменьшает завихрение воздуха при вращении подложек и улучшает равномерность нанесения, поскольку атмосфера в закрытой камере быстрее насыщается растворителем и резист застывает медленнее, что приводит к более однородному процессу нанесения и значительной экономии материалов.
Установки линейки SM демонстрируют чрезвычайную убедительность благодаря высокой степени равномерности и стабильности нанесения в сочетании с простотой эксплуатации и удобством использования. Для уменьшения необходимых усилий по очистке рабочей камеры компания SAWATEC разработала универсальный и доступный защитный вкладыш для чаши (поставляется по запросу). Его можно легко извлечь и утилизировать после завершения процесса. Высококачественная конструкция сводит необходимость в техобслуживании к минимуму. Таким образом, центробежные модули компании SAWATEC являются преимущественным выбором для использования в лабораториях, в научных разработках, пилотных проектах и НИИ.
Высокоточные инструменты доступны как в виде мобильного кабинета, так и во встраиваемой версии.
Характеристики (базовая конфигурация)
- Создание до 50 программ с 24 шагами в каждой
- Функция быстрого запуска для повторяющихся процессов
- Понятная и доступная конфигурация процесса с помощью сенсорного экрана
- Параметры процесса: скорость, ускорение, время
- Возможность выбора направления движения
(по часовой, против часовой стрелки)- Система RCCT (круглая закрытая камера)
- Динамическая распыляющая рука с подключением до 4 линий
- Ручная загрузка и разгрузка подложек
- Фиксация подложек с помощью вакуума и защитная блокировка
- Звуковой сигнал по завершении процесса
Производительность
- Диапазон скорости: 1 - 6’000 об/мин. +/-1 об/мин.
(в качестве опции: 10’000 об/мин. для пластин меньше 8 дюймов)
- Расхождение между заданной и фактической скоростью вращения < +/-1%
- Ускорение: 0 – 6’000 об/мин. за 0,6 сек.
- Задержка: 6’000 об/мин. – 0 за 0,6 сек.
- Время обработки до 9’999 секунд с шагами 0,1 сек.
- Время дозирования материала 999 секунд/сегмент
Диапазон вращения держателя
Для получения идеальных результатов нанесения мы предлагаем держатели полупроводниковых пластин различных форм и размеров. В зависимости от случая применения используются одинарные или двойные держатели с оптическим центрирующим устройством. Чтобы исключить возможность загрязнения обратной стороны подложки, чрезвычайно важно выбрать оптимальный размер держателя и его конструкцию. Замена держателей производится чрезвычайно просто и не требует специального инструмента.
- Вакуумный держатель для кусочков
- Вакуумный держатель для пластин диаметром от 1” до 3”
- Вакуумный держатель для пластин диаметром от 100 мм (4”) до 200 мм (8”)
- Вакуумный держатель для пластин от 100x100 мм (4”x4”)
- Вакуумный держатель для пластин от 125x125 мм (5”x5”)
- Вакуумный держатель для пластин от 150x150 мм (6”x6”)
- Держатели по индивидуальному дизайну
Дополнительные функции (опции)
- Автоматическая система распыления, стеклянный шприц CDS-50 объемом 50 мл
- Удаление наплывов материала с края пластины (EBR круговое, EBR круговое и линейное)
- Автоматическая очистка форсунки с помпой для растворителя FP-20
- Дополнительная распыляющая линия с точной дозирующей помпой GSP-98
- Ножной переключатель Пуск/Стоп для простоты эксплуатации (длина кабеля 1,8 м)
- Защитный вкладыш чаши из ПЭ или алюминия
- Устройство для совмещения полупроводниковых пластин 2” – 8” (круглое)
|
|
|
||
Круговое и линейное удаление наплывов с края | Дополнительная линия распыления с дозирующей помпой GSP-98 | Автоматическая очистка форсунки |
Конструкция и размеры
- Передвижной кабинет из электрополированной нержавеющей стали
- Рабочая чаша из ПЭТФ для высокой степени совместимости с материалами
- Отсутствие брызг фоторезиста благодаря встроенной защитной муфте из ПЭТФ
- Стеклянная передняя дверца для наблюдения за процессом
- Высокоточный, высокодинамичный серводвигатель переменного тока
- Размер шкафа: 850 x 750 x 2331 мм (Д x Ш x В)
- Вес: прим. 220 кг
|
|
|
|