Кластерная система SAWATEC CS-200-4 sirius

Кластерные системы SAWATEC являются идеальным решением для полностью автоматизированных процессов с кассетной загрузкой и выгрузкой. Модульная линейка CS состоит из системы оптического предварительного совмещения и трех станций гибкой конфигурации, которые можно оборудовать рядом необходимых инструментов. Компания SAWATEC разработала системы с соответствующими конфигурациями для процессов со стандартными шагами.

Система	CS-200-4 sirius	CS-200-4 pioneer	CS-300-4 explorer	CS-300-4 orbiter
Станция 1	SM-200	iSPRAY-200	SM-300	iSPRAY-300
Станция 2	SMD-200/ -E	SMD-200/ -E	SMD-300/ -E	SMD-300/ - E
Станция 3	Stacked HP-200	Stacked HP-200	Stacked HP-300	Stacked HP-300

Благодаря гибкой модульной конструкции с автоматической загрузочной станцией кластерная система позволяет пользователю решать индивидуальные, специфические задачи в производстве (линейка Challenger).

15-дюймовый сенсорный экран управления		Высокоскоростной робот

Конструкция шкафа

• Шкаф из нержавеющей стали предназначен для использования в условиях чистой комнаты
• Прозрачные со всех сторон дверцы для наблюдения за процессом
• Расположенный в центре высокоскоростной робот с тремя степенями подвижности и интеллектуальным концевым захватом
• Станция оптического предварительного совмещения
• Все модули легкодоступны для обслуживания и ремонта
• Станция загрузки (2 носителя) с переходником для универсального дизайна для кассет различных типов
• Ручное управление вытяжкой для каждого модуля
• Индикаторы процесса: зеленый, оранжевый и красный
         
  

   
Станция предварительного совмещения

  
Загрузочная станция

Станция 1: Центрифуга SM-200, 1 шт.

Центрифуги компании SAWATEC используются для подложек с очень низкими поверхностными структурами или без них. Устройства линейки SM являются оптимальным выбором для процессов нанесения тонких слоев. Все коммерческие фоторезисты наносятся на поверхность однородно и равномерно. Держатели различных конфигураций обеспечивают высокую гибкость в выборе подложек.

Характеристики (базовая конфигурация):

• Закрытая рабочая камера из ПЭТФ (чаша и защитное кольцо)
• Система RCCT (технология круглой закрытой камеры)
• Функция нанесения с автоматической остановкой на краю поверхности нанесения (система с камерой)
• Фиксация подложек с помощью вакуума и защитная блокировка
• Высокодинамический, прямой сервопривод переменного тока
• Скорость вращения до 6’000 об/мин. +/-1 об/мин. (опционно 10’000)
• Программируемая рука с электроприводом для статического или динамического распыления
• Распыляющая рука с 1 линией (возможно подключение до 4 линий)
• Дозирующий насос SAWATEC с электроприводом GSP-98 до 3000 cps
• Подача материалов из резервуаров
• Сливной резервуар из полипропилена с датчиком переполнения
• Комплект вакуумного держателя для подложек 200 мм (8”)

Дополнительные функции (опции):

• Узел чаши изготовлен из анодированного алюминия
• Удаление наплывов резиста с верхнего края (круговое и линейное)
• Автоматическая очистка форсунки в исходном положении

Удаление наплывов резиста с края (круговое и линейное)		Автоматическая очистка форсунки		Подача материала из резервуаров

Станция 2: Модуль проявления SMD-200 / проявления и травления SMD-200-E

Проявление экспонированного резиста является одним из наиболее важных шагов процесса, поэтому необходимо уделить особое внимание выбору процесса проявления и его параметров. Установки проявления SMD демонстрируют чрезвычайную убедительность благодаря высокой производительности, низкому расходу материалов, а также надежной стабильности даже при работе с толстопленочными резистами.
Линейка систем SMD предназначена для чистки, проявления и травления.

Характеристики (базовая конфигурация):

• Закрытая технологическая камера для безопасности процессов, изготовленная из полипропилена (SMD) или нержавеющей стали (SMD-E)
• Узел чаши для обработки подложек размером до 200 мм, нагреваемый колпак (до 50°C)
• Скорость вращения макс. 3’000 об/мин. +/-1 об/мин. (в зависимости от веса и размера подложки)
• Распыляющий манипулятор с электроприводом с динамической или статической функцией
• Линия подачи проявителя и один резервуар для материала в комплекте
• Форсунка для промывки деионизированной водой и сушки N2 на манипуляторе
• Механическая фиксация подложек, различные держатели
  

Дополнительные функции (опции):

• Дополнительные линии для проявителя (возможность подключения до 4 линий)
• Два подающих манипулятора с линиями для материалов
• Система подогрева резервуаров с проявителем (2 л)
• Форсунки разных размеров и из различных материалов (ПЭЭК или нержавеющая сталь 0,3 / 0,5 / 0,8 мм)
  

				Механический держатель
Модуль проявления SMD-200		Модуль проявления SMD-200-E

Станция 3: Сборный модуль из трех нагревательных столов HP-200 и одного охлаждающего стола CP-200

Устройства линейки HP обеспечивают высокий уровень равномерности и  высокий уровень повторяемости. Заданная температура и температурный профиль имеют узкие пределы, что позволяет добиться высокого качества покрытия.

Характеристики (базовая конфигурация):

• Максимальная температура нагревательного стола 250°C (равномерность +/-0.5°C при 100 °C)
• Автоматическое ограничение температуры, нет перегрева
• Диаметр поверхности нагревательного и охлаждающего стола 250 мм, подходит для обработки подложек размером 8”
• Программируемый зазор и загрузочные/разгрузочные штифты (шаг 8 мм)
• Зазор штифтов с тонкой настройкой с шагом 0,1 мм
• Фиксация подложек с помощью вакуума
• Простое ручное выравнивание нагревательных и охлаждающих столов позволяет избежать вытравления фоторезиста

Дополнительные функции (опции):

• Продувка N2 с программным управлением, отсутствие окисления
• Праймирование ГМДС с программным управлением, оптимизированное сцепление
• Охлаждающий стол расположен рядом с нагревательным (1 дополнительный стол HP-200 для увеличения производительности)
• Внешний чиллер, температура регулируется системной платой
  

Сборный модуль из трех нагревательных столов HP-200		Опция: Охлаждающий стол возле сборных нагревательных столов

Продолжительность обработки и производительность в день

Эффективная производительность зависит от конкретных параметров процесса клиента.



Пример ежедневной продолжительности производства (принято 20 часов; 72’000 сек.)

Процесс	Мoдуль	Время обработки вкл. перемещение (сек.)	Выход/день (шт. пластин)
Нанесение	SM-200	70	1’028
Проявление	SMD-200	90	800
Первая сушка	HP-200 (3 шт.)	(130) 43.33	(553) 1’661

Требования к подключению
Напряжение	3x400 VAC (380 VAC) Ph 0 50/60Hz 32A
Вакуум	-0.8 bar +/-0.2 bar, трубка Ø 8/6 мм
Сжатый воздух	6 bar, трубка Ø 8/6 мм
Азот	4 bar, трубка Ø 8/6 мм
DI-вода	1-2 bar, трубка Ø 8/6 мм
Охлаждающая вода	2 шт. IN / OUT чиллер, Ø 8/6 мм
Вытяжка	3 шт. Ø 150 мм (80-120м3/ч)
Габариты
Шкаф (без блока вентилятора фильтра)	примерно 1400 мм x 1400 мм x 2000 мм (Д x Ш x В)
Вес	примерно 600 кг