Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4

Установка плазмохимического травления Plasma Therm Versaline DSE

Модульная платформа VERSALINE с широкими возможностями для модернизации.


VERSALINE DSE IV позволяет создавать продвинутые и высококачественные структуры для МЭМС – технология ГРИТ может применяться для решения самых разнообразных задач, как с Bosch-обработкой, так и с иными видами процессов.


В VERSALINE DSE реализован целый ряд запатентованных инновационных решений, включая морфинг параметров, быстрое переключение подачи газа и регулировка давления при помощи ПИД-регулятора. Эти возможности позволяют создавать любые необходимые формы при травлении – от больших полостей до наноструктур с высоким аспектным отношением (до 60:1). DSE IV обеспечивает высочайшую скорость обработки, высокую селективность материала относительно оксида и фоторезиста, а также практически не повреждает чувствительные к воздействиям элементы устройств. Дополнительная информация приведена в рекомендациях по применению Plasma-Therm.

Производитель: Plasma Therm
Страна-производитель: США
Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Основные возможности:

  • Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
  • Полноценные 2 МГц для оптимальной эффективности и снижения емкостных связей без экранирующей клетки Фарадея
  • Высокоскоростное бездефектное травление сквозных отверстий III-V (GaAs, InP)
  • Инновационные конфигурации, позволяющие работать как с отдельными пластинами, так и с партиями
  • Различные опции для работы с подложками
  • Первоклассная технология моментального модулирования процесса с уникальными широтными характеристиками для глубокого травления кремния (DSE)
  • Большая библиотека процессов для электроники и фотоники

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Высокая производительность и низкие эксплуатационные затраты VERSALINE® DSE


Варианты применения технологии DSE

Высокая селективностьSi:PR >200:1 Si:SiO >700:1

Аспектное соотношение 60_1 Plasma Therm Versaline DSE.png
Силиктивно зависимое травление Plasma Therm Versaline DSE.png
Гладкие стенки шероховатость10нм Plasma Therm Versaline DSE.png
Аспектное соотношение 60:1
Силиктивно зависимое травление
Гладкие стенки, шероховатость <10нм
Снижение размера Plasma Therm Versaline DSE.png
Высокие скорости травления более 25 мкм Plasma Therm Versaline DSE.png
Удаление полимера Plasma Therm Versaline DSE.png
Снижение размера канавок в кремнии на изоляторе
Высокие скорости травления > 25 мкм
Удаление полимера


Определение окончания процесса оптическим спектрометром (OES)
Соотношение «сигнал-шум» относительно кремния-min.png
Процесс травления может быть остановлен по времени, либо – с высокой точностью при помощи EndpointWorks. Применяемый метод оптической эмиссионной спектроскопии способен определить наличие 1%-ного сигнала кремния. Дополнительно возможно использование лазерной рекфлектометрии или интерферометрии оптического излучения.
Производственная эффективность
Plasma Therm Versaline DSE.png
DSE IV разработана с учетом потребностей массовых производств и эффективности производства. При низких эксплуатационных затратах и высокой пропускной способности она нетребовательна в обслуживании и характеризуется продолжительным временем полезной работы между циклами очистки благодаря конструкции:
  • Нагреваемого источника
  • Нагреваемой камеры
  • Нагреваемого регулятора
  • Нагреваемого турбомоллекулярного насосаи форвакуумной линии
Благодаря стабильной работе оборудования
и отсутствию образования побочных продуктов
на стенках камеры обеспечивается высокая
точность и воспроизводимость процесса как
в рамках одной пластины, так и между.
Plasma Therm Versaline DSE 1.png

  • Устранение эффекта первой подложки
  • Улучшенная воспроизводимость
  • Сокращение временинеобходимое для очистки реактора
Простота Plasma Therm Versaline DSE.png
Работа с разными типами пластин

Разработанные Plasma-Therm
технологические модули
и подложкодержатели
позволяют работать с обширным
диапазоном стандартных и нестандартных
полупроводниковых пластин:
  • Пластины диаметром 4, 6 и 8 дюймов
  • Si, SiO2, SOG, стеклянные и другие подложки
  • Толщина пластины от 120 мкм до 2 мм
  • Изгиб до 1 мм
  • Сквозное травление
По запросу возможна установка
станции оптического пред-совмещения
для определения базового среза
или выемки.


Универсальные технологические модули, совместимые с различными типами загрузочных платформ

Благодаря многолетнему опыту работы с кластерными системами в НИОКР и серийными производствами, Plasma-Therm может подобрать оптимальную конфигурацию в зависимости от потребностей клиента и особенностей производственного процесса. Системы подачи и логика управляющего программного обеспечения снижают перекрестное загрязнение.

Шлюз для 1 PM Plasma Therm Versaline DSE.png
1 кассета до 3 PM Plasma Therm Versaline DSE.png
2 кассеты до 4 PM Plasma Therm Versaline DSE.png
2 кассеты до 6 PM Plasma Therm Versaline DSE.png 
Шлюз для 1 PM
1 кассета, до 3 PM
2 кассеты до 4 PM
2 кассеты до 6 PM


Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх