Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Установка глубокого плазмохимического травления Plasma Therm Versaline ETCH
Модульная платформа VERSALINE® с широкими возможностями для модернизации. На базе платформы VERSALINE возможно создание различных модернизируемых конфигураций, как ручных, так и полностью автоматизированных, с учетом разнообразных сфер применения и пользовательских запросов (РИТ, ГРИТ, ИСП и импульсное высокочастотное РИТ).
Производитель: Plasma Therm
Страна-производитель: США
Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе
на заводе производителе
Основные возможности:
- Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
- Полноценные 2 МГц для оптимальной эффективности и снижения емкостных связей без экранирующей клетки Фарадея
- Высокоскоростное бездефектное травление сквозных отверстий III-V (GaAs, InP)
- Инновационные конфигурации, позволяющие работать как с отдельными пластинами, так и с партиями
- Различные опции для работы с подложками
- Первоклассная технология моментального модулирования процесса с уникальными широтными характеристиками для глубокого травления кремния (DSE)
- Большая библиотека процессов для электроники и фотоники
Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Установки VERSALINE обеспечивают эталонную эффективность и адаптивность для специализированных быстро развивающихся рынков высокотехнологичных производств – от НИОКР до крупных предприятий
Максимальная стабильность и воспроизводимость процесса, возможность травления в ИСП с опциональным нагревом |
Эффективное управление тепловым режимом |
|
|
|
Cortex Система управления |
Пользовательский интерфейс EndpointWorks |
|
|
Графики OES для многослойного травления |
InP кольцевой осцилятор |
Микроактуатор для МЭМС |
Сквозное отверстие GaAs |
Асферическая кварцевая микролинза |
GaN светодиод |
Сапфировая подложка с упорядоченной структурой (PSS) |
Различные конфигурации загрузки подложек
Технические характеристики
Температуры обработки |
от -40°C до 40°C от 10°C до 60°C от 10°C до 200°C |
Размер электрода |
8” (200 мм) в диаметре |
Загрузка |
Ручная, загрузочный шлюз или кассетная |
Система управления |
На базе ControlWorksTM (с записью данных) |
Насос |
Сухой насос |
Газовые линии |
До 8 |
Определение окончания процесса (при использовании системы управления EndpointWorkd) |
Лазерная система (LES) Оптическая интерферометрия (OEI) Оптическая спектрометрия (OES) |
Питание ВЧ генератора |
2 КВт @ 2 МГц ИСП 3,5 КВт @ 2 МГц ИСП Двухдиапазонная 600 Вт @ 13,56 МГц |
Тип установки |
Через стену или полностью в чистом помещении |
Требования к питанию |
200-230 В, 50/60 Гц |
Сертификация |
СЕ, SEMI-S2, S8 |
Варианты исполнения манипулятора
Единицы измерения: мм