Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Киевская, 7

Установка плазмохимического осаждения Plasma Therm Versaline PECVD

Модульная платформа VERSALINE с широкими возможностями для модернизации.


Системы плоскопараллельного и высокоплотного плазменного осаждения позволяют работать с широким диапазоном диэлектрических пленок и легко регулировать их единообразие, толщину, состав и напряженность благодаря большому набору параметров процесса и технологических газов.

Производитель: Plasma Therm
Страна-производитель: США
Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Основные возможности:

  • Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
  • Гибкие возможности для работы с одной или несколькими пластинами на 279 мм (11‘’) электроде
  • Возможность работать с нестандартными подложками и носителями – идеальное решение для НИОКР или специальных проектов
  • Малая площадь основания для эффективного использования чистого помещения
  • SiO2, S3N4, SiOxNy, a-Si:H, SiC или DLC пленки
  • SiOxNy с коррекцией по индексу (показателю преломления)
  • Контроль напряженности при работе с SiNx без низкочастотных повреждений
  • SiO2 с низкой напряженностью
  • Модернизируемые варианты загрузки подложек

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Установки VERSALINE обеспечивают эталонную эффективность и адаптивность для специализированных быстро развивающихся рынков высокотехнологичных производств – от НИОКР до крупных предприятий.

Изотермический плазменный реактор Plasma Therm Versaline PECVD.png
  • Низкие требования к обслуживанию
    • Укороченные циклы очистки с малым объемом плазмы
    • Низкое образование механических частиц за счет лучшей адгезии пленки к стенкам камеры и газовому душу
    • Очистка внутренних элементов камеры при помощи продувки азотом
    • Ускоренная очистка камеры с использованием 2кВт ВЧ источника (поставляется отдельно)
  • Повышение равномерности благодаря распределению газа
Низкотемпературное осаждение Plasma Therm Versaline PECVD.png
  • Эффективный и независимый контроль потока и энергии ионов
  • Минимальные ионные повреждения
  • Эффективное заполнение канавок
  • Улучшенное нанесение на ступеньки (конформность)
  • Повышенная плотность пленки при T≤150°C
  • Доказанная надежность программного обеспечения
    • Интуитивно понятная базовая программа – ControlWorks
    • Комплексная запись данных
    • Программирование автоматизированных циклов очистки
    • Отображение данных в реальном времени
    • Система автоматического окончания процесса
    • Совместимость со средствами производственной автоматизации (SECS/GEM)
    • Редактирование рецептов во время работы
    • Многопользовательский доступ различных уровней
    • Сбор статистики аварийных сообщений
Пользовательский интерфейс Plasma Therm Versaline PECVD.png
Пользовательский интерфейс Plasma Therm Versaline PECVD
Пользовательский интерфейс EndpointWorks.png
Пользовательский интерфейс EndpointWorks
  • Глубокий контроль процесса с уникальной системой EndpointWorks от Plasma-Therm
    • Отслеживание степени осаждения в реальном времени
    • Отслеживание толщины в реальном времени с воспроизводимостью ±1%
    • Оптимизированный процесс плазменной очистки
  • Высокий уровень единообразия как в рамках одной пластины, так и между пластинами
    • Единообразие толщины ±2,5%
  • Контроль заданной толщины пленки
    • Определение окончания процесса по интерферометрииоптического излучения (OEI)
    • Доказанная воспроизводимость результатов, с компенсацией вариативности условий окружающей среды
    • Повторяемость толщины пленки при смене газовых баллонов
Воспроизводимость между Plasma Therm Versaline PECVD.png
Воспроизводимость между отдельными запусками
OEI в рекаторе (разрез) Plasma Therm Versaline PECVD.png
  • Запатентованная система определения процесса по OEI
    • Не требует выравнивания
    • Не требует корректировки лазером
    • Более высокое (по сравнению с лазером) разрешение для тонких пленок
    • Универсальность: OEI и OES


Различные конфигурации загрузки подложек


Различные конфигурации загрузки подложек Plasma Therm Versaline PECVD.png


Компоновка/Технические характеристики


Температура процесса
От 80°С до 350°C
Размер электрода
11’’ (279 мм) в диаметре
Загрузка
Ручная, загрузочный шлюз или кассетная
Система управления
На базе ControlWorks (с записью данных)
Насос
Насос Рутса
Газовые линии
До 8
Определениеокончанияпроцесса
Интерферометрия (OEI) илиспектрометрия (OES) оптическогоизлучения
ВЧ генератор
Двухдиапазонный 60/600 Вт 13.56 МГц
По запросу – 2 кВт 13.56 МГц
2 кВт 2 МГц ИСП (только для исполненияс возможностью низкотемпературногоосаждения высокоплотной плазмой)
Электропитание
200-230V, 50/60 Hz
Сертификация
CE, SEMI-2, S8


Варианты исполнения манипулятора


ВАРИАНТЫ ИСПОЛНЕНИЯ МАНИПУЛЯТОРА Plasma Therm Versaline PECVD.png



Спасибо!
Мы направили вам на электронный адрес
подробное техническое описание оборудования plasma therm versaline pecvd


Получить брошюру на почту
Оставьте свой электронный адрес и мы вышлем вам
подробное техническое описание оборудования plasma therm versaline pecvd
Нажимая кнопку «Получить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
×
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх