Установка плазмохимического осаждения Plasma Therm Versaline PECVD

Модульная платформа VERSALINE с широкими возможностями для модернизации.

Системы плоскопараллельного и высокоплотного плазменного осаждения позволяют работать с широким диапазоном диэлектрических пленок и легко регулировать их единообразие, толщину, состав и напряженность благодаря большому набору параметров процесса и технологических газов.

Производитель: Plasma Therm

Страна-производитель: США

Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Организация приемки оборудования
на заводе-изготовителе

В некоторых случаях важным этапом поставки сложного оборудования является его обязательная приемка на заводе-изготовителе. Проведение приемочных испытаний позволяет своевременно выявить возможные недостатки в работе оборудования и быстро их устранить. Поэтому компания ТБС, официальный представитель ведущих мировых производителей высокотехнологичного оборудования, предоставляет своим заказчикам, заинтересованным в ознакомлении с процессом производства оборудования и проверке его качества, возможность посещения Европейских заводов-изготовителей.

Специально для инженерного персонала заказчика, в обязанности которого будет входить работа на выбранной установке, будет организован выезд на территорию завода компании-производителя и обеспечено участие в испытаниях и приемке оборудования. Совместно со специалистами компании ТБС представители заказчика смогут проверить соответствие собранной установки техническому заданию, удостовериться в качестве исполнения и оценить эксплуатационные характеристики на основе тестовых процессов.

Также в рамках визита представители пройдут специализированные тренинги, включающие в себя теоретическую и практическую часть, которые позволят получить подробную информацию о принципах работы, правилах эксплуатации и обслуживания выбранного оборудования. По завершению тренингов специалистам выдается официальный сертификат компании производителя, подтверждающий прохождение сотрудниками профессионального обучения и позволяющий им работать на данном оборудовании.

Двухэтапная приемка (первичная на заводе-производителе и последующая на территории заказчика) облегчает и ускоряет пусконаладочные работы, а также ввод в эксплуатацию оборудования.

Уверенность в сделанном выборе, а также приобретенные персоналом знания и навыки эффективной работы на высокотехнологичном оборудовании будут способствовать успеху и дальнейшему развитию предприятия. Это еще раз позволит по достоинству оценить все преимущества сотрудничества с компанией ТБС.

За более подробной информацией обращайтесь к нашим специалистам.

Штаб-квартира SUSS MicroTec
в Гархинг (Германия)

Штаб-квартира Evatec
в Трюббах (Швейцария)

Штаб-квартира Corial
в Бернин (Франция)

Основные возможности:

Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
Гибкие возможности для работы с одной или несколькими пластинами на 279 мм (11‘’) электроде
Возможность работать с нестандартными подложками и носителями – идеальное решение для НИОКР или специальных проектов
Малая площадь основания для эффективного использования чистого помещения
SiO2, S3N4, SiOxNy, a-Si:H, SiC или DLC пленки
SiOxNy с коррекцией по индексу (показателю преломления)
Контроль напряженности при работе с SiNx без низкочастотных повреждений
SiO2 с низкой напряженностью
Модернизируемые варианты загрузки подложек

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта

Полное описание

Установки VERSALINE обеспечивают эталонную эффективность и адаптивность для специализированных быстро развивающихся рынков высокотехнологичных производств – от НИОКР до крупных предприятий.

Низкие требования к обслуживанию Укороченные циклы очистки с малым объемом плазмы Низкое образование механических частиц за счет лучшей адгезии пленки к стенкам камеры и газовому душу Очистка внутренних элементов камеры при помощи продувки азотом Ускоренная очистка камеры с использованием 2кВт ВЧ источника (поставляется отдельно) Повышение равномерности благодаря распределению газа	Эффективный и независимый контроль потока и энергии ионов Минимальные ионные повреждения Эффективное заполнение канавок Улучшенное нанесение на ступеньки (конформность) Повышенная плотность пленки при T≤150°C
Доказанная надежность программного обеспечения Интуитивно понятная базовая программа – ControlWorks Комплексная запись данных Программирование автоматизированных циклов очистки Отображение данных в реальном времени Система автоматического окончания процесса Совместимость со средствами производственной автоматизации (SECS/GEM) Редактирование рецептов во время работы Многопользовательский доступ различных уровней Сбор статистики аварийных сообщений	Пользовательский интерфейс Plasma Therm Versaline PECVD
Пользовательский интерфейс EndpointWorks	Глубокий контроль процесса с уникальной системой EndpointWorks от Plasma-Therm Отслеживание степени осаждения в реальном времени Отслеживание толщины в реальном времени с воспроизводимостью ±1% Оптимизированный процесс плазменной очистки Высокий уровень единообразия как в рамках одной пластины, так и между пластинами Единообразие толщины ±2,5%
Контроль заданной толщины пленки Определение окончания процесса по интерферометрииоптического излучения (OEI) Доказанная воспроизводимость результатов, с компенсацией вариативности условий окружающей среды Повторяемость толщины пленки при смене газовых баллонов	Воспроизводимость между отдельными запусками
	Запатентованная система определения процесса по OEI Не требует выравнивания Не требует корректировки лазером Более высокое (по сравнению с лазером) разрешение для тонких пленок Универсальность: OEI и OES

Различные конфигурации загрузки подложек

Компоновка/Технические характеристики

Температура процесса	От 80°С до 350°C
Размер электрода	11’’ (279 мм) в диаметре
Загрузка	Ручная, загрузочный шлюз или кассетная
Система управления	На базе ControlWorks (с записью данных)
Насос	Насос Рутса
Газовые линии	До 8
Определениеокончанияпроцесса	Интерферометрия (OEI) илиспектрометрия (OES) оптическогоизлучения
ВЧ генератор	Двухдиапазонный 60/600 Вт 13.56 МГц По запросу – 2 кВт 13.56 МГц 2 кВт 2 МГц ИСП (только для исполненияс возможностью низкотемпературногоосаждения высокоплотной плазмой)
Электропитание	200-230V, 50/60 Hz
Сертификация	CE, SEMI-2, S8

Установка плазмохимического осаждения Plasma Therm Versaline PECVD

Различные конфигурации загрузки подложек

Компоновка/Технические характеристики

Варианты исполнения манипулятора