Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Установка плазмохимического осаждения Plasma Therm Versaline PECVD
Модульная платформа VERSALINE с широкими возможностями для модернизации.
Системы плоскопараллельного и высокоплотного плазменного осаждения позволяют работать с широким диапазоном диэлектрических пленок и легко регулировать их единообразие, толщину, состав и напряженность благодаря большому набору параметров процесса и технологических газов.
Производитель: Plasma Therm
Страна-производитель: США
![](/bitrix/templates/tbs-iprill/img/lg.png)
на заводе производителе
Основные возможности:
- Максимальная производительность при низких эксплуатационных затратах
- Гибкие возможности для работы с одной или несколькими пластинами на 279 мм (11‘’) электроде
- Возможность работать с нестандартными подложками и носителями – идеальное решение для НИОКР или специальных проектов
- Малая площадь основания для эффективного использования чистого помещения
- SiO2, S3N4, SiOxNy, a-Si:H, SiC или DLC пленки
- SiOxNy с коррекцией по индексу (показателю преломления)
- Контроль напряженности при работе с SiNx без низкочастотных повреждений
- SiO2 с низкой напряженностью
- Модернизируемые варианты загрузки подложек
Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Установки VERSALINE обеспечивают эталонную эффективность и адаптивность для специализированных быстро развивающихся рынков высокотехнологичных производств – от НИОКР до крупных предприятий.
![]()
|
![]()
|
|
![]() Пользовательский интерфейс Plasma Therm Versaline PECVD |
![]() Пользовательский интерфейс EndpointWorks |
|
|
![]() Воспроизводимость между отдельными запусками |
![]() |
|
Различные конфигурации загрузки подложек
![Различные конфигурации загрузки подложек Plasma Therm Versaline PECVD.png Различные конфигурации загрузки подложек Plasma Therm Versaline PECVD.png](/upload/medialibrary/376/Различные%20конфигурации%20загрузки%20подложек%20Plasma%20Therm%20Versaline%20PECVD.png)
Компоновка/Технические характеристики
Температура процесса |
От 80°С до 350°C |
Размер электрода |
11’’ (279 мм) в диаметре |
Загрузка |
Ручная, загрузочный шлюз или кассетная |
Система управления |
На базе ControlWorks (с записью данных) |
Насос |
Насос Рутса |
Газовые линии |
До 8 |
Определениеокончанияпроцесса |
Интерферометрия (OEI) илиспектрометрия (OES) оптическогоизлучения |
ВЧ генератор |
Двухдиапазонный 60/600 Вт 13.56 МГц По запросу – 2 кВт 13.56 МГц 2 кВт 2 МГц ИСП (только для исполненияс возможностью низкотемпературногоосаждения высокоплотной плазмой) |
Электропитание |
200-230V, 50/60 Hz |
Сертификация |
CE, SEMI-2, S8 |
Варианты исполнения манипулятора
![ВАРИАНТЫ ИСПОЛНЕНИЯ МАНИПУЛЯТОРА Plasma Therm Versaline PECVD.png ВАРИАНТЫ ИСПОЛНЕНИЯ МАНИПУЛЯТОРА Plasma Therm Versaline PECVD.png](/upload/medialibrary/ec7/ВАРИАНТЫ%20ИСПОЛНЕНИЯ%20МАНИПУЛЯТОРА%20Plasma%20Therm%20Versaline%20PECVD.png)