Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Trymax NEO 200
Установка плазменной обработки NEO 200 от компании Trymax Semi Conductor является современной системой удаления фоторезиста, травления, зачистки пластин и озоления. Система специально предназначена для обработки подложек диаметром до 200 мм. Она оснащена полуавтоматической станцией загрузки, которая способна обрабатывать подложки размером до 200 мм. Линейка NEO 200 отвечает всем требованиям исследовательских институтов и производителей устройств, имеет компактный размер, что позволяет максимально снизить эксплуатационные расходы.
Производитель: Trymax
Страна-производитель: Нидерланды
Основные возможности:
- Размер пластин до 200 мм
- Загрузочная платформа для полуавтоматического переноса пластин
- 4 технологических модуля: СВЧ (2,45 ГГц), ВЧ-смещение (13,56 Мгц), Двойной источник (СВЧ, ВЧ-смещение), DCP (ВЧ-смещение, плазма постоянного тока)
- Высокая равномерность и воспроизводимость
- Компактное основание
- Низкие эксплуатационные расходы
- Система связи с цифровым управлением (Devicenet-Ethernet)
- Промышленный ПК на базе Windows
- Стандарты соответствия: SEMI S2-01, SEMI S8-01, CE, EU-RoHs
Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Применение
- Удаление резиста с большой площади
- Удаление непроявленного резиста
- Удаление полимера
- Удаление резиста после высокодозной ионной имплантации
- Травление нитрида кремния
- МЭМС
- Корпусирование и тестирование (PR, PI, BCB, PBO)
Управление вводом/выводом с помощью Devicenet и Ethernet
- Модули FESTO CPX devicenet сопряжены со всеми цифровыми и аналоговыми вводами и выводами
- Управление пневматическими компонентами через модули FESTO CPX devicenet
- Цифровые регуляторы массового расхода Horiba
- Современный ВЧ-генератор энергии с управлением через Ethernet
- Загрузочные порты Brooks Vision с управлением через Ethernet
Управление блокировками
- Управление блокировками происходит через программируемый центральный контроллер безопасности
- Функции каждой из блокировок предустановлены




Технологический СВЧ-модуль

Применение:
- Снятие фоторезиста (высокая темп.)
- Удаление непроявленного резиста (низкая темп.)
- HDI

Комплектация:
- Алюминиевый держатель с литым контуром нагрева и охлаждения (диапазон: 20–250°C ± 2°C)
- Вакуумная камера из электрополированного алюминия
- Направляющая с 3 подъемными штифтами и простой регулировкой
- Двойные кварцевые перегородки для работы с материалами, не содержащими CF4
- Перегородки из алюминия/керамики для процессов с CF4 (> 5% общего объема)
- СВЧ-источник мощностью 2 кВт или 3 кВт и частотой 2.45 ГГц
- Регуляторы массового расхода Horiba Device net (макс. 5 на газовую/рабочую камеру)
- Регулятор массового расхода с системой вентиляции
- Система регулировки давления VAT 615
- Устройство для определения конечной точки длины волны с прямой связью (Verity)