|
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Полуавтоматическая установка совмещения/сращивания SUSS MA/BA 6/8 Gen4 PRO
Полуавтоматическая установка совмещения/сращивания полупроводниковых пластин для промышленных исследований и производства
Производитель: SUSS MicroTec
Страна-производитель: Германия
Основные возможности:
- Оптические компоненты высокого разрешения (HR) позволяют формировать структуры менее 0,5 мкм
- Совмещение с подсказками или в автоматическом режиме обеспечивает точность вплоть до 0,25 мкм
- Расширенные автоматические функции для максимального контроля над процессом
- Совместимость с автоматическим оборудованием
- Оптимизированный микроскоп с расщепленным полем с прямым визуальным контролем изображения и/или плоскоэкранным ЖК-дисплеем
- Простое переключение в режим совмещения для сращивания
- Модернизация до системы микро- и наноимпринтинга
- Комплект инструментов для импринтинга микролинз
- Комплект инструментов для селективной плазменной активации
- Возможно использование инструментария прошлых поколений платформ MA/BA6 и MA/BA8
Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Инновационное совершенство
Системы линейки MA/BA Gen4 Pro являются новейшим поколением полуавтоматических установок совмещения для сращивания компании SUSS MicroTec и представляют собой платформы, которые совмещают в себе систему базового уровня MA/BA Gen4 и систему профессионального уровня MA/BA Gen4 Pro. Профессиональная установка совмещения Gen4 Pro создана для проведения промышленных исследований и производства с участием оператора и доступна в версиях MA/BA6 Gen4 Pro и MA/BA8 Gen4 Pro.
Данная серия была разработана с целью обеспечения быстрой и эффективной разработки новых технологий и продуктов. Исследовательские организации смогут использовать преимущество в виде усовершенствованных возможностей данной машины, поскольку она позволит разрабатывать процессы с использованием стандартного для данной области промышленности оборудования.
Благодаря способности легко обрабатывать полупроводниковые пластины и подложки из любых материалов, полуавтоматические системы совмещения всё чаще используются в производственной среде.
Серия MA/BA Gen4 Pro была создана компанией SUSS MicroTec в ответ на все более растущий спрос на системы, обеспечивающие жесткий технологический контроль в сочетании с высокой производительностью.
Системы MA/BA Gen4 Pro являются эталоном для литографии на всем поле полупроводниковой пластины в области МЭМС, корпусирования, 3D-интеграции и компаудных полупроводников. Они также используются в таких процессах, как микро- и наноимпринтинг, совмещение перед сращиванием, УФ-склеивание, селективная плазменная активация, а также импринтинг и сборка микролинз на уровне п/п пластины. Процессы, созданные на MA/BA Gen4 Pro, можно быстро перенести на автоматическую платформу совмещения MicroTec для запуска в производство. В основе обеих платформ лежит одинаковая технология компании SUSS.
Расширяем границы технологии
Непревзойденная точность совмещения в сочетании с высоким разрешением и максимальной равномерностью освещения являются решающим фактором для выбора системы MA/BA Gen4 Pro для целого ряда областей применения, таких как МЭМС, оптоэлектроника и 3D-корпусирование, микрооптика и нанотехнологии.
|
|
|
||
|
МЭМС Печать на 500 мкм, структуры SU8 |
UV LIGA Микромеханические компоненты часов |
Корпусирование датчика изображения на КМОП-структуре, литография через переходные отверстия в кремнии. Через верхние и нижние отверстия |
||
 |
 |
 |
||
|
Корпусирование на субмикронном уровне резист толщиной 350 нм AZ6612 Линии и пробелы 400 нм Печать с помощью ВР оптики SUSS UV400 |
Упаковка в масштабе кристалла на уровне пластины, слой распределения |
Микроимпринт-литография (SMILE) Пучок микролинз для камеры на уровне пластины (размеры линз: толщина 30 мкм, диаметр 1600 мкм) |
||
 |
 |
 |
||
|
Наноимпринт-литография в УФ Отверстия шириной 160 нм, расположенные в форме концентрических кругов, которые используются в фотонных кристаллах |
Импринт-литография по большой площади (SCIL) с технологией мягкого штампа |
SELECT Селективная плазменная активация на п/п пластине размером 4" |
Объединяем промышленные исследования и производство
Инновационность, высокая производительность, рентабельность и малый срок вывода изделия на рынок являются ключевыми факторами при разработке и исследовании продукта в начале 21 века. В новом поколении систем MA/BA Gen4 Pro компания SUSS MicroTec реализовала инновационное передовое решение в области систем совмещения, которое обеспечивает высокую технологическую гибкость, включая процесс совмещения на субмикронном уровне и оптимизированную литографию с толстопленочным резистом, микро- и наноимпринтинг в УФ, импринтинг и сборку микролинз, сращивание в УФ, технологию, SELECT и расширенные опции для совмещения перед сращиванием.MA/BA Gen4 Pro, предназначенная для НИиОКР, пилотных линий и производственной среды, позволяет реализовать весь процесс исследования с последующим легким и экономичным переносом из лаборатории в производство. Ключевые компоненты, такие как оптика, система совмещения и графический интерфейс пользователя идеально совместимы с производственной платформой SUSS.
Промышленности необходимы исследования – для исследований необходимо оборудование
Качество нашей жизни в будущем зависит от наших сегодняшних вложений в исследования. Чтобы соответствовать ритму жизни, мы разрабатываем новые технологи и продукты, которые позже будут выпускаться в больших объёмах. Благодаря своей инновационной технологии ручные установки совмещения от компании SUSS MicroTec вносят свой вклад в исследования и разработку, таким образом помогая нам формировать будущее.
Полностью автоматические установки совмещения от SUSS MicroTec используются практически на всех крупных предприятиях по корпусированию, производству МЭМС и компаудных полупроводников, где ключевыми требованиями являются высокая производительность и рентабельность производства.