Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4

Кластерная установка вакуумного осаждения Evatec CLUSTERLINE 200 II

Швейцария
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
картинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинкакартинка

Универсальная кластерная система
Открытая архитектура системы CLUSTERLINE 200 II позволяет легко конфигурировать ее под комплекс таких процессов как PVD, PECVD и мягкое травление. Система позволяет работать с пластинами до 200 мм

Производитель: Evatec
Страна-производитель: Швейцария
Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Основные возможности:

  • Открытая архитектура системы, легко настраивается и расширяется
  • Вспомогательные функции модулей, включая выравнивание пластин, дегазацию и охлаждение
  • Двухкасетный шлюз – загрузка и выгрузка пластин без контакта с оператором, индикация выравнивания пластин
  • Робот-загрузчик на магнитном приводе
  • Возможность работы с подложками толщиной от 70 мкм до 6 мм
  • Модульная конструкция подложкодержателя позволяет быстро переоснащать систему под подложки различных типоразмеров (4 ", 5", 6 " и 8")
  • Плоские магнетроны (RF и DC) с вращающейся магнитной системой обеспечивают высокую однородность пленки
  • Мягкий процесс ICP травления обеспечивает высокую скорость и высокую однородность даже при низких напряжениях смещения. Обработка подложек плазмой H2, N2 и O2
  • Охлаждаемый подложкодержатель (до -30 °С) позволяет травить подложки из органических материалов, таких как полиимид (PI) и полибензоксазол (PBO)
  • Модуль дегазации пластин обеспечивает высокую воспроизводимость результатов
  • До четырех магнетронных источников (постоянного тока и ВЧ) на одном кластерном модуле с возможностью одновременной работы
  • Контролируемая температура подложкодержателя от -30 до 800 ° C

Инжиниринговые услуги:

Монтаж газовых линийСистема бесперебойного электропитанияСистемы хранения и резервирования данныхСтанция водоподготовки

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх