---

Представляет уникальную технологию компании SUSS для установок совмещения полупроводниковых пластин:

• В основе оптические интеграторы высокого качества
• Непревзойденная равномерность освещения
• Сочетает оптические характеристики оптики SUSS HR (высокого разрешения) и LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
• Обеспечивает гибкость формы освещения для
  оптимизации результатов печати

Оптика доступна для:

• Ручная установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
• Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA6
• Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8 Gen3
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA150e
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA 6/8 Gen4
(другие системы по запросу)

НОВАЯ концепция экспонирования: MO-оптика

MO-интегратор(1) Расщепляет освещение		Уменьшение дифракции Определение настроек освещения пластиной фильтра "Элемент для определения угла"		MO-интегратор (2) Обеспечивает равномерное освещение поля фотошаблона

Сильные эффекты дифракции от параллельного освещения		уменьшающая дифракцию оптика компании SUSS

Основа технологии: Два интегратора Келера с микролинзами

Экспонирующая оптика SUSS MO

---

Инновационное освещение для установок совмещения SUSS: МО-оптика

• Лучшая равномерность (± 2.5%)
• Настройки SUSS HR (высокое разрешение) a LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
• Гибкие настройки освещения благодаря быстрой и простой замене пластины фильтра IFP
• Расщепление источника света

Гибкое формирование луча с помощью
различных пластин фильтров освещения

Улучшенная равномерность – независимо от положения лампы

Отличная равномерность освещения независимо от смещения лампы и ухудшения работы электродов в процессе эксплуатации

Равномерность света: <2.0% MA/BA6 MO-оптика (HR-IFP)

Положение лампы: Не критично!



Наклон лампы: Не критичен!

 

Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения

Эффективность оптики SUSS – HR / LGO vs. MO

---

HR - оптика				LGO -оптика
Зазор экспонирования: 20 мкм Разрешение: 2,75 мкм (HR)		Зазор экспонирования: 50 мкм Разрешение: 4,5 мкм (HR)		Зазор экспонирования: 100 мкм Разрешение: 6 мкм(LGO)		Зазор экспонирования: 300 мкм Разрешение: 12 мкм (LGO)

MO - оптика
Зазор экспонирования: 20 мкм Разрешение: 2,75 мкм (IFP-HR)		Зазор экспонирования: 50 мкм Разрешение: 4,5мкм (IFP-HR)		Зазор экспонирования: 100 мкм Разрешение: 6 мкм (IFP-LGO)		Зазор экспонирования: 300 мкм Разрешение: 12 мкм (LGO)

AZ4110, толщина пленки 1.2 мкм (%U <0.5) : Si W-150
MA6, лампа 1000 Ватт, свет широкого спектра
Оценка :: микроскоп Olympus (верхнее изображение)

Спецификации оптики

SUSS MicroTec – лист спецификаций и общие данные оптики. Информация для MJB4 и MA8 пока не подтверждена на 100%

MA6/MA150e (UV400 - W150)
Характеристика	A-оптика (HR)	LEGO-оптика	MO-HR (IFP A)	MO-LGO (IFP Circle 22,5)
Равномерность (P405)	5%	5%	2,5%	2,5%
Интенсивность (P405 @ 1000Вт)	70 мВт/см²	35 мВт/см²	40 мВт/см²	30 мВт/см²
Интенсивность (P365 @ 1000Вт)	35 мВт/см²	18 мВт/см²	20 мВт/см²	15 мВт/см²

*Равномерность и интенсивность, измеренные с помощью УФ-оптометра SUSS

Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения

MO-оптика позволяет точно формировать

• Угловые спектры
• Частичную когерентность

света в установке совмещения полупроводниковых пластин


Действие оптимизированной пластины фильтра освещения (резист 1,3 мкм, зазор экспонирования 100 мкм, квадраты 10 мкм на фотошаблоне)

Пример: Улучшение краев и углов линий

MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце

Пример: тестирование MO-оптики Tests при FhG-IOF: полутоновая литография

Литография с микрозазором, зазор 10 мкм, тот же рисунок фотошаблона (точки 450 нм на решетке 2 мкм)

#2588 Malteser 0°IFP LV1.0		#2589 Ring IFP LV0.5		#2590 Malteser 45°IPF LV1.0		#2591 ohne Blende

Заключение

Характеристики и преимущества экспонирующей МО-оптики

Характеристика	Преимущество
Равномерность освещения 2,5%	Лучшая равномерность освещения ведет к большей равномерности размеров элементов (прямая корреляция)
IFP-HR плюс IFP-LGO	Одна оптическая система вместо двух -> экономия времени (замена оптики: с 30 мин. до 1 мин.) и средств (одна МО-система на 30% дешевле, чем 1хHR + 1xLGO)
Расщепление источника света	Экономит время настройки или обслуживания при замене лампы или ежедневного планового осмотра для проверки/подстройки равномерности освещения (мин. 10 мин.)
Специальное освещение	Предлагает возможность дальнейшей оптимизации самого результата печати. Это позволяет расширить технологическое окно для наших клиентов и позволяет им проявлять или создавать новые изделия.

MO-оптика является инновационной и передовой технологией в области установок пошагового экспонирования, которая теперь доступна и для традиционных систем совмещения полупроводниковых пластин. Она демонстрирует мастерство компании SUSS в производстве ключевых технологий.

Оптика доступна для:

• Ручная установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
• Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA6
• Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8 Gen3
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA150e
• Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA 6/8 Gen4
(другие системы по запросу)