Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Инновационная Экспонирующая оптика SUSS MO
Представляет уникальную технологию компании SUSS для установок совмещения полупроводниковых пластин:
![Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS.jpg](/upload/medialibrary/687/6878233d229810887f90cae11418eb34.jpg)
- В основе оптические интеграторы высокого качества
- Непревзойденная равномерность освещения
- Сочетает оптические характеристики оптики SUSS HR (высокого разрешения) и LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
- Обеспечивает гибкость формы освещения для
оптимизации результатов печати
Оптика доступна для:
- Ручная установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
- Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA6
- Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8 Gen3
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA150e
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA 6/8 Gen4
(другие системы по запросу)
НОВАЯ концепция экспонирования: MO-оптика
![]() |
|
![]() |
![]() |
|
MO-интегратор(1) Расщепляет освещение |
Уменьшение дифракции Определение настроек освещения пластиной фильтра "Элемент для определения угла" |
MO-интегратор (2) Обеспечивает равномерное освещение поля фотошаблона |
![Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS.jpg](/upload/medialibrary/a34/a347dcc4b3cb4536c458588a34937ef7.jpg)
![]() |
![]() |
|
Сильные эффекты дифракции от параллельного освещения | уменьшающая дифракцию оптика компании SUSS |
![Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS Экспонирующая оптика для установок совмещения SUSS](/upload/medialibrary/405/4056809007549b9801204e5e2fa12323.jpg)
Основа технологии: Два интегратора Келера с микролинзами
![Два интегратора Келера с микролинзами Два интегратора Келера с микролинзами.jpg](/upload/medialibrary/000/0004f96a047ac7f0d42847713ed8b7b4.jpg)
Экспонирующая оптика SUSS MO
![Экспонирующая оптика SUSS MO Экспонирующая оптика SUSS MO.jpg](/upload/medialibrary/ac6/ac61df3848061248018c27746d13cd48.jpg)
![Экспонирующая оптика SUSS MO Экспонирующая оптика SUSS MO.jpg](/upload/medialibrary/231/23101c302d93fa29fc91e880e0f1998f.jpg)
Инновационное освещение для установок совмещения SUSS: МО-оптика
![]() |
![]() |
- Лучшая равномерность (± 2.5%)
- Настройки SUSS HR (высокое разрешение) a LGO (экспонирование с большим зазором) в одной системе
- Гибкие настройки освещения благодаря быстрой и простой замене пластины фильтра IFP
- Расщепление источника света
![Гибкое формирование луча с помощью различных пластин фильтров освещения Гибкое формирование луча с помощью различных пластин фильтров освещения.jpg](/upload/medialibrary/7c0/7c0a3eb08f449801f93cd969f0f1fab9.jpg)
Гибкое формирование луча с помощью
различных пластин фильтров освещения
Улучшенная равномерность – независимо от положения лампы
Отличная равномерность освещения независимо от смещения лампы и ухудшения работы электродов в процессе эксплуатации
![]() |
Равномерность света: <2.0% MA/BA6 MO-оптика (HR-IFP) |
![Положение лампы Положение лампы.jpg](/upload/medialibrary/cb4/cb46401d961ce9e66c8096d7ded04fbe.jpg)
Наклон лампы: Не критичен!
![Наклон лампы Наклон лампы.jpg](/upload/medialibrary/e75/e756a2c26af86f049f7ea87db3b4027d.jpg)
Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения
![Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения Установка совмещения и экспонирования SUSS – общие данные разрешения.jpg](/upload/medialibrary/d79/d79a80c3f5213c319be72364c6db38c6.jpg)
Эффективность оптики SUSS – HR / LGO vs. MO
HR - оптика |
LGO -оптика |
|||||
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
|||
Зазор экспонирования: 20 мкм Разрешение: 2,75 мкм (HR) |
Зазор экспонирования: 50 мкм Разрешение: 4,5 мкм (HR) |
Зазор экспонирования: 100 мкм Разрешение: 6 мкм(LGO) |
Зазор экспонирования: 300 мкм Разрешение: 12 мкм (LGO) |
MO - оптика |
||||||
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
|||
Зазор экспонирования: 20 мкм Разрешение: 2,75 мкм (IFP-HR) |
Зазор экспонирования: 50 мкм Разрешение: 4,5мкм (IFP-HR) |
Зазор экспонирования: 100 мкм Разрешение: 6 мкм (IFP-LGO) |
Зазор экспонирования: 300 мкм Разрешение: 12 мкм (LGO) |
AZ4110, толщина пленки 1.2 мкм (%U <0.5) : Si W-150
MA6, лампа 1000 Ватт, свет широкого спектра
Оценка :: микроскоп Olympus (верхнее изображение)
Спецификации оптики
SUSS MicroTec – лист спецификаций и общие данные оптики. Информация для MJB4 и MA8 пока не подтверждена на 100%
MA6/MA150e (UV400 - W150) | ||||
---|---|---|---|---|
Характеристика | A-оптика (HR) | LEGO-оптика | MO-HR (IFP A) | MO-LGO (IFP Circle 22,5) |
Равномерность (P405) |
5% |
5% |
2,5% |
2,5% |
Интенсивность (P405 @ 1000Вт) |
70 мВт/см² | 35 мВт/см² | 40 мВт/см² | 30 мВт/см² |
Интенсивность (P365 @ 1000Вт) |
35 мВт/см² | 18 мВт/см² | 20 мВт/см² | 15 мВт/см² |
Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения
MO-оптика позволяет точно формировать
света в установке совмещения полупроводниковых пластин
- Угловые спектры
- Частичную когерентность
![Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения.jpg Гибкие и оптимизированные настройки пластины фильтра освещения.jpg](/upload/medialibrary/727/727eb27bc87cf7191172456b01371c33.jpg)
Действие оптимизированной пластины фильтра освещения (резист 1,3 мкм, зазор экспонирования 100 мкм, квадраты 10 мкм на фотошаблоне)
Пример: Улучшение краев и углов линий
MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце
![MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце MA150, микрозазор 100 мкм, тонкопленочный резист на кристаллическом кварце.jpg](/upload/medialibrary/9a5/9a58f9f9ceaef6966bcc58c49f32b2b6.jpg)
Пример: тестирование MO-оптики Tests при FhG-IOF: полутоновая литография
Литография с микрозазором, зазор 10 мкм, тот же рисунок фотошаблона (точки 450 нм на решетке 2 мкм)
#2588 Malteser 0°IFP LV1.0 | #2589 Ring IFP LV0.5 | #2590 Malteser 45°IPF LV1.0 | #2591 ohne Blende | |||
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
Заключение
Характеристики и преимущества экспонирующей МО-оптики
Характеристика | Преимущество |
---|---|
Равномерность освещения 2,5% |
Лучшая равномерность освещения ведет к большей равномерности размеров элементов (прямая корреляция) |
IFP-HR плюс IFP-LGO |
Одна оптическая система вместо двух -> экономия времени (замена оптики: с 30 мин. до 1 мин.) и средств (одна МО-система на 30% дешевле, чем 1хHR + 1xLGO) |
Расщепление источника света |
Экономит время настройки или обслуживания при замене лампы или ежедневного планового осмотра для проверки/подстройки равномерности освещения (мин. 10 мин.) |
Специальное освещение |
Предлагает возможность дальнейшей оптимизации самого результата печати. Это позволяет расширить технологическое окно для наших клиентов и позволяет им проявлять или создавать новые изделия. |
MO-оптика является инновационной и передовой технологией в области установок пошагового экспонирования, которая теперь доступна и для традиционных систем совмещения полупроводниковых пластин. Она демонстрирует мастерство компании SUSS в производстве ключевых технологий.
Оптика доступна для:
- Ручная установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
- Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA6
- Универсальная установка для совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA8 Gen3
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA150e
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA 6/8 Gen4
(другие системы по запросу)