Оборудование Компоненты Сервис |
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4
|
Нагревательная плита для высокоточной сушки фоторезиста HP 300 Z
Нагревательная плита HP-300-Z предназначена для процессов первой и второй сушки фоторезиста в области литографии, производства МЭМС и других подобных процессов. Температурный предел по умолчанию составляет 300°C. Начальная температура и температурная кривая имеют узкие допуски, что позволяет добиться высокого качества покрытия. Устройства серии НP демонстрируют прекрасные рабочие характеристики благодаря высокой равномерности и стабильности процессов. Они могут использоваться с подложками диаметром до 300 мм и толщиной до 20 мм. В стандартном исполнении плита оснащена датчиками нагрузки и расстояния, что позволяет обрабатывать до пяти подложек одновременно (до 100 мм).
В результате обновления линейки оборудования Sawatec, взамен популярной HP 401 поставляется улучшенная модель Sawatec HP 300
Основные возможности:
- Контроль температуры с цифровым отображением целевого и фактического значения
- Функция быстрого запуска для проведения повторяющихся процессов
- Автоматическое реле температуры, защита от перегрева
- Поэтапный нагрев (до 20 значений)
- Датчики нагрузки и расстояния для работы с подложками разных размеров
- Программируемая кривая нагрева, максимум 10°C в мин. (25°-300°С)
- Программируемая кривая охлаждения, максимум 5°C в мин. (300°-40°С)
- Нагревательная плита с мультизонным нагревом (16 зон) и защитным стеклом, простая чистка
- Простое выравнивание нагревательной пластины, предупреждение стекания фоторезиста
- Интуитивно понятное управление при помощи тач-экрана
- Ручная фиксация подложек с помощью вакуума
- Ручная загрузка и разгрузка подложек