ОБОРУДОВАНИЕ

ПРОИЗВОДИТЕЛИ

Система для жидкостной химической обработки фотошаблонов SUSS HMX Square

Ручная система для жидкостной химической обработки фотошаблонов, обладающая возможностями для мягкого удаления малейших дефектов, чистки фазосвдигающих шаблонов, при минимальной концентрации остаточных ионов для обеспечения нужд полупроводниковой промышленности.

Производитель: SUSS MicroTec

Страна-производитель: Германия

Возможность двухэтапной приемки
на заводе производителе

Организация приемки оборудования
на заводе-изготовителе

В некоторых случаях важным этапом поставки сложного оборудования является его обязательная приемка на заводе-изготовителе. Проведение приемочных испытаний позволяет своевременно выявить возможные недостатки в работе оборудования и быстро их устранить. Поэтому компания ТБС, официальный представитель ведущих мировых производителей высокотехнологичного оборудования, предоставляет своим заказчикам, заинтересованным в ознакомлении с процессом производства оборудования и проверке его качества, возможность посещения Европейских заводов-изготовителей.

Специально для инженерного персонала заказчика, в обязанности которого будет входить работа на выбранной установке, будет организован выезд на территорию завода компании-производителя и обеспечено участие в испытаниях и приемке оборудования. Совместно со специалистами компании ТБС представители заказчика смогут проверить соответствие собранной установки техническому заданию, удостовериться в качестве исполнения и оценить эксплуатационные характеристики на основе тестовых процессов.

Также в рамках визита представители пройдут специализированные тренинги, включающие в себя теоретическую и практическую часть, которые позволят получить подробную информацию о принципах работы, правилах эксплуатации и обслуживания выбранного оборудования. По завершению тренингов специалистам выдается официальный сертификат компании производителя, подтверждающий прохождение сотрудниками профессионального обучения и позволяющий им работать на данном оборудовании.

Двухэтапная приемка (первичная на заводе-производителе и последующая на территории заказчика) облегчает и ускоряет пусконаладочные работы, а также ввод в эксплуатацию оборудования.

Уверенность в сделанном выборе, а также приобретенные персоналом знания и навыки эффективной работы на высокотехнологичном оборудовании будут способствовать успеху и дальнейшему развитию предприятия. Это еще раз позволит по достоинству оценить все преимущества сотрудничества с компанией ТБС.

За более подробной информацией обращайтесь к нашим специалистам.

Штаб-квартира SUSS MicroTec
в Гархинг (Германия)

Штаб-квартира Evatec
в Трюббах (Швейцария)

Штаб-квартира Corial
в Бернин (Франция)

Основные возможности:

Технология обработки фотошаблонов с топологией от 250 нм до 3 мкм
Используется как при производстве заготовок фотошаблонов, фотошаблонов с паттерном
Различные хим. процессы обработки фотошаблонов: очистка, проявление, травление, удаление пеликлов
Веерные распылительные форсунки и форсунки подачи раствора струей
Мегазвуковая очистка для удаления частиц субмикронного размера
Модуль ионизации для NH4OH / SC1 / SC2
Модуль подготовки и подачи рекативов
Новейшие решения для соблюдения правил техники безопасности и охраны окружающей среды и стандартам CE

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта

Полное описание
Спецификации

Основные данные:

безрамный белый корпус из полипропилена

материал, соответствующий стандарту FM

пневматические и электронные средства управления на корпусе машины

габариты: ширина 960 мм (1200) х глубина 1060 мм

крышки из оргстекла для расходомеров и технологических модулей

топология 3 мкм - 250 нм

подтвержденная производительность серии HMx

современная электроника и ПО

новейшие расширения для соблюдения правил техники безопасности и охраны окружающей среды

усовершенствованная чистка

Фотошаблоны
Квадратные	Круглые	Особые
65 х 65 мм 3 х 3", 3 х 5" 4 x 4", 5 x 5" 6 x 6", 7 x 7" 7,25", 9 x 9" 14 x 14"	100 мм 125 мм 150 мм 200 мм 300 мм	Кусочки

Рабочая камера:

изготовлена из полипропилена с открытой верхней частью для равномерного ламинарного потока воздуха и потока чистого воздуха

диаметр камеры 380 мм

симметричная кольцевая вытяжка с встроенной сепарацией жидкости

индикация вытяжки с помощью дифференциального манометра

система распыления кислоты, система распыления со струйной форсункой для компактной струи и системой чистки 1 МГц Мегазвук для фотошаблонов и подложек

до 4 систем распыления с веерными форсунками для процессов проявления и/или травления

СИСТЕМА ФИНАЛЬНОЙ ПРОМЫВКИ:		СИСТЕМА РАСПЫЛЕНИЯ MEGASONIC:

Система финальной промывки деионизированной водой и веерные форсунки для процессов травления/проявления. использование деионизрованной воды, ионизированной CO₂ возможность использования с материалами для травления и проявления (TMAH) одна струйная форсунка из ПВДФ со скоростью потока 750 мл/мин для промывки передней стороны две струйные насадки для промывки обратной стороны минимальный промывочный поток с контролем посредством электронного расходомера регулирование расхода через шариковые расходомеры и/или игольчатые клапаны фильтрация материала: 0,1 мкм		Рекомендуется для удаления частиц субмикронного размера. распыление через форсунку из кварца генерация кавитационной области преобразователем установленным над кварцевым форсунком мегазвуковая частота 1 МГц аналоговое управление мощностью системы Megasonic через ГИП

РАБОТА С ФОТОШАБЛОНАМИ РАЗНЫХ РАЗМЕРОВ:

Различные держатели из ПП/ПВДФ для фотошаблонов и подложек пластин

используется для фотошаблонов одного или двух разных размеров

конструкция со спицами позволяет проводить промывку обратной стороны

двойные держатели фотошаблонов 4 дюйма/5 дюймов, 5 дюймов /6 дюймов и 7 дюймов /9 дюймов

возможна работа с фотошаблонами толщиной 0,09 дюйма, 0,12 дюймов, 0,25 дюймов

держатель под фотошаблон 2 дюйма, 4 дюйма, 8 дюймов и 300 мм со стандартной толщиной

БЛОК ИОНИЗАЦИИ NH₄0H / SC1 / SC2:

Регулируемый впрыск жидкого гидрата аммиака (NH₄OH) в деионизированную воду, чтобы избежать электростатического осаждения во время распыления и улучшить процесс чистки.

управляемая инжекция ионов в жидкость (NH₄OH и H₂O₂)

блок генерации SC1 путем подачи H₂O₂ после предварительного смешивания NH₄OH и деионизированной воды

блок генерации SC2 путем подачи H₂O₂ после предварительного смешивания HCl и деионизированной воды

электропроводность регулируется NH₄OH:
150 - 400 мкС, стабильность ± 10%, SC1: 600 - 1400 мкС,
стабильность ± 10%

регулируемые пределы тревоги

фильтрация жидкости 0,1 мкм

БЛОК ИОНИЗАЦИИ CO₂:

Чтобы избежать электростатического повреждения во время финальной промывки

регулируемая подача CO₂

электропроводность регулируется 5 – 10 мкС, стабильность ± 20%

регулируемые пределы тревоги

фильтрация газа CO₂ 0,05 мкм

ДОПОЛНИТЕЛЬНЫЙ ШКАФ С РЕЗЕРВУАРАМИ:

Используется для хранения химического травителя для распыления через систему спреевых форсунок

распыление из рабочего резервуара высокого давления, материал и размер необходимо указать при заказе

автоматическая герметизация до 3,0 бар

аппаратная блокировка герметизации и распыления

игольчатые клапаны из ПТФЭ для точной настройки потока материалов

клапаны из ПФА с пневматическим контролем

фильтрация материала 0,1 мкм

УПРАВЛЯЮЩЕЕ ПО

платформа для работы в реальном времени на базе Windows XP для удобства эксплуатации

структура совместимая с SECS/GEM 200 мм

контроль функционирования системы с помощью отдельных программных модулей

постоянный мониторинг соответствующих параметров процесса

программируемый сбор сведений и автоматизированная регистрация событий

связь между модулями с помощью стандартных протоколов сообщений

интерфейс пользователя со структурой в виде прозрачных меню с уровнями доступа, защищенными паролями

дизайн в соответствии со стандартами Semi S1-0701E, S2-0706D, S8-0308, S13-0305 и стандартами CE

отслеживание утечки материала и выхлопных газов с аппаратной блокировкой распыления

аппаратная блокировка всех состояний датчика, связанных с безопасностью: например, протечка, вытяжка, защитные

ограждения, уровень жидкости в водяной бане температура нагревателя материала и т.д.

аппаратная блокировка для запрета распыления несовместимых материалов по спецификации заказчика (указывается покупателем при заказе)

системы распыления с двойным кожухом

эргономичный дизайн блоков для хранения химических реагентов

БАЗОВАЯ СИСТЕМА HMX SQUARE 9’’
Конфигурация	Чистка	Проявление	Травление
Рама/корпус системы
Шкаф с резервуарами
Рабочая камера
Промывка обратной стороны (2/1 струйные форсунки) Промывка верхней стороны веерной форсункой (2х веерные спреевые форсунки) Промывка камеры (3х веерные спреевые форсунки)
Подача и подготовка материала Блок ионизации CO₂-DI Ручное заполнение резервуара Основная фильтрация ДИ-воды 0,1 мкм Водяной пистолет для ДИ-воды Подача и контроль воздуха, азота и вакуума
Подача питания (шкаф аварийного отключения)
Контроль устройства ПО + ГИП (Windows XP) АО (ПК)
Характеристики процесса
Система распыления SPM 1 многоотверстная форсунка для налива 1 нагреватель кислоты (H₂SO₄) 2 кислотных насоса
Система струйного распыления 1 форсунка с компактной струей 1 высоконапорный насос
Щеточный блок
Система Мегазвук 1 МГц
Веерные/струйные спреевые форсунки (макс. доп. 2x2 форсунки)